专利名称: | 传送机构及其湿式处理设备 |
摘要: | 本发明是关于一种传送机构及其湿式处理设备,该传送机构适于传送矩形基板沿传送路径移动,传送机构包括:复数个第一转轴;复数个第一滚轮,第一滚轮分别设于第一转轴上,且沿传送路径排列,每一第一滚轮设有一滚轮面并与矩形基板底缘接触;复数个第二转轴;以及复数个第二滚轮,第二滚轮分别设于第二转轴上,并沿传送路径排列,且位于两相邻第一滚轮间,每一第二滚轮设有一滚轮面,滚轮面与矩形基板侧壁接触,使矩形基板保持沿传送路径移动。传送机构藉由在对应矩形基板侧壁处设有导正功能滚轮,可有效将矩形基板保持于传送路径上,并可避免造成矩形 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 友达光电股份有限公司 |
发明人: | 李国斌;肖厚彦;谢从钢;黄贵昌 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2003-07-11T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN03146002.X |
公开号: | CN1569590 |
代理机构: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人: | 寿宁;张华辉 |
分类号: | B65G49/07 |
申请人地址: | 中国台湾 |
所属类别: | 发明专利 |