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原文传递 一种上釉方法及其装置
专利名称: 一种上釉方法及其装置
摘要: 本发明公开了一种上釉方法及其装置,属于陶瓷制备加工技术领域,解决了陶瓷胚上釉困难、操作工序复杂不便的问题。本发明的上釉装置包括上釉转轴、喷枪和吹扫杆,并采用该上釉方法进行喷涂,通过在喷涂箱内设置上釉转轴、喷枪和吹扫杆,分别用于陶瓷胚的固定、多层施釉、吹扫烘干操作,操作方便快捷,配合气囊的充气膨胀以及旋转夹座的夹持固定,保证了陶瓷胚与上釉转轴处于同一轴线上,在陶瓷胚随上釉转轴旋转时不发生偏转或大幅度晃动,固定效果好,在喷枪上的多组施釉喷头的切换下,便于对陶瓷胚依次实现多种釉料的喷涂,配合吹扫杆的冷风吹扫及热风烘干操作,提高了施釉操作的便捷性,利于多余釉料的收集,陶瓷胚取放便捷,安全环保。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 广东明宇科技股份有限公司
发明人: 邱秋雄;邱伟杰;李伟林;邱楚鹏;李洁;苏新
专利状态: 有效
申请日期: 2019-11-12T00:00:00+0800
发布日期: 2019-12-27T00:00:00+0800
申请号: CN201911103083.6
公开号: CN110614709A
代理机构: 广州科沃园专利代理有限公司
代理人: 孙文卉
分类号: B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11
申请人地址: 521000 广东省潮州市二期工业园振潮北路东侧(地块二)
主权项: 1.一种上釉方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤一、陶瓷胚(1)固定:将陶瓷胚(1)套设在上釉支架(4)的上釉转轴(7)上,并将上釉转轴(7)上气囊(8)置于陶瓷胚(1)内,与此同时,将气囊(8)充气与陶瓷胚(1)相接触,并将陶瓷胚(1)内部填充并支撑,并将陶瓷胚(1)固定; 步骤二、旋转吹扫:利用旋转电机(14)带动链轮使上釉转轴(7)带动陶瓷胚(1)均匀的旋转,陶瓷胚(1)侧面的吹扫杆(43)采用压缩空气对陶瓷胚(1)表面进行吹扫; 步骤三、多层施釉:利用上釉转轴(7)带动陶瓷胚(1)均匀的旋转,陶瓷胚(1)侧面的喷枪(26)通过分度电机(42)驱动切换施釉喷头(34),选择第一层施釉的施釉喷头(34),并启动对应的增压泵(30),将釉料导入容器(29)内釉料通过供釉管(28)泵入釉料分配器(27),釉料分配器(27)将釉料分配到第一层施釉的施釉喷头(34),喷出釉料对陶瓷胚(1)表面均匀喷涂施釉,吹干后,通过切换喷枪(26)上的施釉喷头(34),在第一釉层的表面喷涂第二釉浆浆料,吹干后,再次切换喷枪(26)上的施釉喷头(34),在第二釉层的表面喷涂第三釉浆浆料并吹干,完成陶瓷胚(1)的多层施釉; 步骤四、吹扫烘干:每层施釉结束后,将加热管(46)通电,并加热吹扫杆(43)吹出的压缩空气对陶瓷胚(1)表面进行吹扫,热空气将上釉后的陶瓷胚(1)烘干; 步骤五、釉料收集:多层施釉产生的多余釉料落入釉料收集斗(47),并沿导釉板(48)进入收集容器(49)并收集; 步骤六、成品取出:旋转电机(14)停止工作,通过减压阀(25)将气囊(8)放气,并将多层施釉完成后的陶瓷胚(1)从旋转夹座(9)上取下,将陶瓷胚(1)进行烧制,即可得到成品。 2.根据权利要求1所述的上釉方法,其特征在于,在步骤一中,将陶瓷胚(1)的敞口处通过旋转夹座(9)固定,旋转夹座(9)设置在上釉转轴(7)上,在气囊(8)支撑及旋转夹座(9)夹持定位下,陶瓷胚(1)与上釉转轴(7)沿同一轴线设置。 3.根据权利要求1所述的上釉方法,其特征在于,在步骤三中,每层施釉结束后,吹扫烘干的温度在70-120摄氏度的空气氛围中干燥30-70min。 4.根据权利要求3所述的上釉方法,其特征在于,在步骤六中,从喷涂箱(5)内取出陶瓷胚(1)送至烘干炉内,开启烘干炉并调节控制内部温度在1200-2500摄氏度,对陶瓷胚(1)烧制8~10小时,烧制完毕后,关闭烘干炉等待陶瓷胚(1)自然降温,等到炉内温度降至100摄氏度时,取出陶瓷胚(1)再等待其冷却至室温,即可得到成品。 5.一种基于权利要求1-4任一所述的上釉方法的上釉装置,其特征在于,包括上釉转轴(7)、喷枪(26)和吹扫杆(43),所述上釉转轴(7)上安装有气囊(8),上釉转轴(7)内设有与气囊(8)连通的进气通道(20),上釉转轴(7)上放置有陶瓷胚(1),上釉转轴(7)上还安装有旋转夹座(9),上釉转轴(7)通过链轮连接旋转电机(14),上釉转轴(7)后端转动设置在连接套(21)内,连接套(21)与上釉转轴(7)内的进气通道(20)相连通,连接套(21)通过充气管(23)连接充气泵(24); 所述喷枪(26)设置在上釉转轴(7)上侧,喷枪(26)通过釉料分配器(27)连接供釉管(28),供釉管(28)连接增压泵(30),增压泵(30)连接釉料导入容器(29),喷枪(26)上设有多组施釉喷头(34),每组施釉喷头(34)连接不同的储釉腔(33),釉料分配器(27)上安装有用于施釉喷头(34)切换的分度驱动机构; 所述吹扫杆(43)安装在上釉转轴(7)侧面,吹扫杆(43)通过压缩空气管(44)连接空气压缩机(45),吹扫杆(43)内还安装有加热管(46); 所述上釉转轴(7)下方的上釉工作台(2)上安装有釉料收集斗(47),釉料收集斗(47)底部连通收集容器(49)。 6.根据权利要求5所述的上釉装置,其特征在于,所述上釉转轴(7)安装在上釉支架(4)上,上釉支架(4)底部固定在支座(3)上,支座(3)安装在上釉工作台(2)上,上釉工作台(2)上安装有喷涂箱(5),所述上釉转轴(7)、喷枪(26)和吹扫杆(43)均设置在喷涂箱(5)内,喷涂箱(5)设置为上釉空间(6)。 7.根据权利要求6所述的上釉装置,其特征在于,所述上釉支架(4)设有用于上釉转轴(7)转动安装的轴套(10),上釉转轴(7)穿过轴套(10)并转动架设在上釉支架(4)上,气囊(8)安装在上釉支架(4)前侧的上釉转轴(7)上,气囊(8)包括外气囊(16)、内气囊(17)、支撑气囊(18)以及弹性体(19),所述外气囊(16)设置在内气囊(17)外侧,内气囊(17)固定在上釉转轴(7)上,内气囊(17)与进气通道(20)连通,外气囊(16)和内气囊(17)设置有若干支撑气囊(18),支撑气囊(18)沿内气囊(17)外侧周向等间距分布,支撑气囊(18)连通外气囊(16)和内气囊(17),相邻的支撑气囊(18)之间填充有弹性体(19)。 8.根据权利要求7所述的上釉装置,其特征在于,所述链轮包括安装在上釉支架(4)后侧上釉转轴(7)上的第一链轮(11)、通过传动链条(12)与第一链轮(11)连接的第二链轮(13)以及用于第二链轮(13)安装的驱动轴(15),驱动轴(15)连接旋转电机(14),旋转电机(14)安装在上釉支架(4)上。 9.根据权利要求5所述的上釉装置,其特征在于,所述喷枪(26)包括喷枪筒(31)、分隔板(32)、储釉腔(33)和施釉喷头(34),所述喷枪筒(31)内安装有分隔板(32),分隔板(32)将喷枪筒(31)内部分割为多个储釉腔(33),储釉腔(33)外侧的喷枪筒(31)上安装有多组施釉喷头(34),每组施釉喷头(34)分别对应连通一个储釉腔(33),釉料分配器(27)包括釉料分配管(35)、釉料分配隔板(36)和釉料分配腔(37),釉料分配管(35)内安装有釉料分配隔板(36),釉料分配隔板(36)将釉料分配管(35)内部分割为多个釉料分配腔(37),釉料分配腔(37)的数量与储釉腔(33)的数量相等且一一对应连通,每个釉料分配腔(37)均连通一根供釉管(28),每根供釉管(28)又独立连接一个增压泵(30),增压泵(30)连接储存有一种釉料的釉料导入容器(29)。 10.根据权利要求9所述的上釉装置,其特征在于,所述分度驱动机构包括安装在釉料分配器(27)的釉料分配管(35)上的分度盘(38),分度盘(38)上设有分度槽(39),分度槽(39)侧面设有销栓(40),销栓(40)安装在旋转盘(41)上,旋转盘(41)的中心轴连接分度电机(42)。
所属类别: 发明专利
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