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原文传递 聚硅氧烷母粒的上料装置
专利名称: 聚硅氧烷母粒的上料装置
摘要: 本实用新型涉及聚硅氧烷母粒的上料装置。聚硅氧烷母粒的上料装置,包括底座、柱体、电机;柱体内部设置有中心护柱,中心护柱连接设置在柱体顶部的电机,柱体底部连接底座;柱体内部,中心护柱的外周螺旋连接有平面提升盘,平面提升盘的内侧直接与中心护柱接触,平面提升盘的外侧直接与柱体的内壁接触;平面提升盘的底部连接进料盘,平面提升盘的顶部连接出料盘;平面提升盘向上延伸的方向与水平面的夹角α是5°‑20°。本实用新型聚硅氧烷母粒的上料装置,其便于清洗,在其内部不易黏附聚硅氧烷母粒,减少产品污染情况的发生。
专利类型: 实用新型
国家地区组织代码: 四川;51
申请人: 成都思立可科技有限公司
发明人: 雷霆;徐龙平
专利状态: 有效
申请日期: 2018-07-19T00:00:00+0800
发布日期: 2019-05-14T00:00:00+0800
申请号: CN201821149796.7
公开号: CN208856329U
分类号: B65G33/14(2006.01);B;B65;B65G;B65G33
申请人地址: 610300 四川省成都市青白江区工业集中发展区创新路336号
主权项: 1.聚硅氧烷母粒的上料装置,其特征在于:包括底座、柱体、电机;柱体内部设置有中心护柱,中心护柱连接设置在柱体顶部的电机,柱体底部连接底座; 柱体内部,中心护柱的外周螺旋连接有平面提升盘,平面提升盘的内侧直接与中心护柱接触,平面提升盘的外侧直接与柱体的内壁接触;平面提升盘的底部连接进料盘,平面提升盘的顶部连接出料盘; 平面提升盘向上延伸的方向与水平面的夹角α是5°-20°。 2.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:所述中心护柱是空心结构。 3.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:所述夹角α是10°-15°。 4.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:所述平面提升盘在其与外侧40%-60%的横向距离处设置若干凸起结构。 5.根据权利要求4所述的上料装置,其特征在于:高度方向上相邻的凸起结构之间的距离是15cm-20cm。 6.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:平面提升盘在高度方向上设置有加固筋。 7.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:底座与地面固定连接,并且底座内设置有减震结构。 8.根据权利要求1所述的上料装置,其特征在于:所述电机是偏心震动电机。
所属类别: 实用新型
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