专利名称: |
基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法 |
摘要: |
本发明公开了一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法。该方法是以倾斜视角做线扫描成像,即:1)取偏离反射光方向但又与之临近的散射光视角成像;2)把面阵器件作为线阵器件来使用;3)利用面阵成像器件不同位置像素行对应不同角度的散射光,提供多视角通道成像;4)利用面阵成像器件相邻几行像素成像的略微差异,产生相互间细节略有不同的具有微偏移位置关系的序列图,再通过超分辨算法合成,进而得到整个平整表面附着痕迹的高分辨率融合图像。所述方法相对于传统照相方法而言,由于其可减少背景并获取尽量强的信号,故图像的信噪比得到了明显提升,进而解决了传统照相方法带来的图像倾斜变形和局部失焦的问题,具有先进性和有效性。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
北京和众视野科技有限公司 |
发明人: |
丁茂峦;彭湘洲;石巧平 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-01-29T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-17T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910085585.4 |
公开号: |
CN109765232A |
代理机构: |
北京智沃律师事务所 |
代理人: |
李笑丹 |
分类号: |
G01N21/84(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
100070 北京市丰台区汽车博物馆东路盈坤世纪F座506 |
主权项: |
1.一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法是以倾斜视角做线扫描成像,具体包括如下步骤: S1:在附着痕迹的平整表面上架设成像设备; S2:设置成像设备的高度和扫描范围,以及成像视角和照明角度; S3:成像设备在扫描范围内逐步移动,每移动一步,采集一行或相邻几行图像,直至完成整个扫描范围的图像采集; S4:将所有采集的图像行按采集时间的先后顺序依次拼接得到完整图像。 2.如权利要求1所述的一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法利用散射光与主反射光分离的方法,取偏离反射光方向但又与之临近的散射光视角成像。 3.如权利要求2所述的一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法至少设定一个成像视角且至少设定一个照明角度。 4.如权利要求1所述的一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述架设的成像设备是把面阵成像器件作为线阵成像器件的方式来使用,且利用多个位置的像素单行或几行区域来等效形成多个线阵器件的功能。 5.如权利要求4所述的一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法利用面阵成像器件不同位置像素行对应不同角度的散射光,提供多视角通道成像。 6.如权利要求4所述的一种基于平整表面附着痕迹的散射光扫描成像方法,其特征在于,所述方法利用面阵器件上的某个像素行及其相邻几行像素行间的成像差异,产生相互间细节略有不同的具有微偏移位置关系的序列图,再通过超分辨算法合成,得到高分辨率的融合图像。 |
所属类别: |
发明专利 |