专利名称: |
一种半导体洁净输送系统 |
摘要: |
本实用新型涉及一种半导体洁净输送系统,其特征在于:包括吊轨、夹持气缸、脉冲清洁机构和输送装置;所述吊轨呈环形结构设置在脉冲清洁机构和输送装置之间;本实用新型采用循环是的方式将待清洗的半导体晶体夹持到清洗工位下方的池体内通过脉冲进行振荡清洗,完成清洗后直接通过吊轨转移至进入下个工序的输送装置上,避免在中间进行装卸导致二次污染,提高了生产效率和产品的合格率。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
江苏;32 |
申请人: |
江苏晶睿光电科技有限公司 |
发明人: |
山世清 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-08-24T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-06-07T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201821370238.3 |
公开号: |
CN208948371U |
代理机构: |
北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
高利利 |
分类号: |
B65G49/07(2006.01);B;B65;B65G;B65G49 |
申请人地址: |
226500 江苏省南通市如皋市长江镇迅驰路18号 |
主权项: |
1.一种半导体洁净输送系统,其特征在于:包括吊轨、夹持气缸、脉冲清洁机构和输送装置;所述吊轨呈环形结构设置在脉冲清洁机构和输送装置之间; 所述夹持气缸具有若干个且通过滑块沿着竖直方向设置在环形的吊轨上,所述夹持气缸通过循环电机驱动沿着吊轨的铺设轨迹移动,所述夹持气缸在吊轨上至少形成夹持工位、清洗工位、输送工位和等待工位四个工位;所述夹持工位位于原料处,清洗工位位于脉冲清洁机构的上方,所述输送工位位于输送装置的上方; 所述脉冲清洁机构包括池体、气包和脉冲管;所述气包通过支撑板水平设置在池体的顶端,所述气包的一侧边连接有脉冲气源,气包的另一侧水平设置有出气口且出气口处设置有脉冲阀;所述脉冲管至少具有两个且脉冲管的一端连接在气包的出气口上,脉冲管的另一端延伸至池体内;所述脉冲管上设置有若干脉冲口; 所述输送装置包括输送架、输送电机、输送带和张紧调节轮;所述输送架的两端分别设置有一输送辊,输送电机的输出端连接有一减速器,减速器的输出端与输送架上的其中一输送辊之间通过齿轮传动;所述输送带缠绕在输送辊上;所述张紧调节轮设置在输送架上与输送带配合。 2.根据权利要求1所述的一种半导体洁净输送系统,其特征在于:所述脉冲管延伸至池体内形成盘管状结构且相邻的脉冲管结构在池体内呈立式分布,盘管状的脉冲管上脉冲口相对设置。 3.根据权利要求1所述的一种半导体洁净输送系统,其特征在于:所述输送装置的输送带上设置有与半导体配合的卡槽。 |
所属类别: |
实用新型 |