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原文传递一种X射线探测器及自动曝光监测方法

专利名称：	一种X射线探测器及自动曝光监测方法
摘要：	本发明提供一种X射线探测器及自动曝光监测方法，所述X射线探测器包括：光电探测单元，用于感应X射线，并在X射线曝光时通过光电转换产生曝光电荷并存储；自动曝光监测单元，连接于所述光电探测单元，用于采样流经所述光电探测单元的电流，以实现根据采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测。通过本发明解决了现有采用硅光电倍增管进行自动曝光监测时增加了X射线探测器的成本和易损坏性的问题。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	上海奕瑞光电子科技股份有限公司
发明人：	陈泽恒;马扬喜;林言成;黄翌敏
专利状态：	有效
申请日期：	2019-02-27T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-14T00:00:00+0800
申请号：	CN201910143820.9
公开号：	CN109884089A
代理机构：	上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人：	余明伟
分类号：	G01N23/04(2018.01);G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	201201 上海市浦东新区瑞庆路590号9幢2层202室
主权项：	1.一种X射线探测器，其特征在于，所述X射线探测器包括：光电探测单元，用于感应X射线，并在X射线曝光时通过光电转换产生曝光电荷并存储；自动曝光监测单元，连接于所述光电探测单元，用于采样流经所述光电探测单元的电流，以实现根据采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测。 2.根据权利要求1所述的X射线探测器，其特征在于，所述光电探测单元包括若干呈阵列排布的光电探测器，所述光电探测器包括光电二极管及与所述光电二极管并联的电容；其中，各所述光电二极管的阳极端并联以接入一偏置电压，同时连接于所述自动曝光监测单元。 3.根据权利要求2所述的X射线探测器，其特征在于，所述X射线探测器还包括与所述光电探测器一一对应的TFT开关管，其中，所述TFT开关管的源极端连接于所述光电二极管的阴极端，所述TFT开关管的漏极端通过数据线连接于列采集电路，所述TFT开关管的栅极端通过扫描线连接于行驱动电路。 4.根据权利要求1至3任一项所述的X射线探测器，其特征在于，所述自动曝光监测单元包括：采样模块，连接于所述光电探测单元，用于采样流经所述光电探测单元的电流以输出；放大模块，连接于所述采样模块，用于将所述采样电流转换为电压信号并放大，产生采样电压以输出；比较处理模块，连接于所述放大模块，用于根据所述采样电压及基准电压对所述X射线探测器进行自动曝光监测。 5.根据权利要求4所述的X射线探测器，其特征在于，所述采样模块包括采样电阻，其中所述采样电阻串联于所述光电探测单元。 6.根据权利要求4所述的X射线探测器，其特征在于，所述放大模块包括：仪表放大器，连接于所述采样模块，用于将所述采样电流转换为电压信号并放大；运算放大器，连接于所述仪表放大器，用于对放大后的所述电压信号进行二次放大以产生所述采样电压。 7.根据权利要求4所述的X射线探测器，其特征在于，所述比较处理模块包括比较器，用于比较所述采样电压和所述基准电压，并在所述采样电压大于所述基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光。 8.根据权利要求4所述的X射线探测器，其特征在于，所述比较处理模块包括处理器，用于比较相邻两采样电压，并在后一采样电压与前一采样电压之差大于所述基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光。 9.根据权利要求4所述的X射线探测器，其特征在于，所述比较处理模块包括处理器，用于对前N个所述采样电压求平均以获取所述基准电压，之后将第N+1个采样电压与所述基准电压进行比较，并在第N+1个采样电压大于所述基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光；其中，N为大于1的整数。 10.根据权利要求9所述的X射线探测器，其特征在于，所述处理器还用于重复上述步骤M次以获取M个采样电压及M个基准电压，并在M个采样电压均大于其对应的基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光；其中，M为大于1的整数。 11.一种利用如权利要求1至10任一项所述的X射线探测器实现的自动曝光监测方法，其特征在于，所述自动曝光监测方法包括：采样流经所述光电探测单元的电流，并根据采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测。 12.根据权利要求11所述的自动曝光监测方法，其特征在于，根据所述采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测的方法包括：将所述采样电流转换为电压信号并放大以产生采样电压；比较所述采样电压和基准电压，并在所述采样电压大于所述基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光。 13.根据权利要求11所述的自动曝光监测方法，其特征在于，根据所述采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测的方法包括：将所述采样电流转换为电压信号并放大以产生采样电压；比较相邻两采样电压，并在后一采样电压与前一采样电压之差大于基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光。 14.根据权利要求11所述的自动曝光监测方法，其特征在于，根据所述采样电流的变化对所述X射线探测器进行自动曝光监测的方法包括：将所述采样电流转换为电压信号并放大以产生采样电压；对前N个所述采样电压求平均以获取基准电压，之后将第N+1个采样电压与所述基准电压进行比较，并在第N+1个采样电压大于所述基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光；其中，N为大于1的整数。 15.根据权利要求14所述的自动曝光监测方法，其特征在于，重复上述步骤M次以获取M个采样电压及M个基准电压，并在M个采样电压均大于其对应的基准电压时，判定所述X射线探测器存在X射线曝光；其中，M为大于1的整数。
所属类别：	发明专利