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原文传递一种薄膜光学常数测量装置

专利名称：	一种薄膜光学常数测量装置
摘要：	本实用新型涉及一种薄膜光学常数的测量装置。为了解决现有技术无法测量梯度或者渐变折射率的问题，本实用新型提供的装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置；所述椭偏参数检测系统由光源、起偏器、波片、检偏器和探测器组成且位于真空室的外部。本装置可以获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	陕西;61
申请人：	西安工业大学
发明人：	徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;李建超;吴慎将;杨利红;李阳;诗云云
专利状态：	有效
申请日期：	2018-09-29T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-18T00:00:00+0800
申请号：	CN201821605889.6
公开号：	CN208999296U
代理机构：	西安新思维专利商标事务所有限公司
代理人：	黄秦芳
分类号：	G01N21/21(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	710032 陕西省西安市未央区学府中路2号
主权项：	1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源（7），所述真空系统包括真空室（4）和样品台（5）；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪（8）；所述样品台（5）安装在真空室（4）的顶部，离子源（7）安装在真空室（4）底部，其离子束输出口正对样品台（5）设置；所述椭偏参数检测系统由光源（1）、起偏器（2）、波片（3）、检偏器（9）和探测器（10）组成且位于真空室（4）的外部，真空室（4）的两侧相对设置有入射光路窗口和出射光路窗口，所述起偏器（2）和波片（3）依次设置于光源（1）的入射光路上，光源（1）发出的光经起偏器（2）和波片（3）后从真空室（4）的窗口进入真空室（4），入射到样品台（5）下部的待测样品（6）表面，经薄膜表面反射后，从真空室另一侧窗口出射，出射光路上依次设置有检偏器（9）和探测器（10）。 2.根据权利要求1所述的梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：所述的光源波长为300-900 nm；测试光入射角度为65°。 3.根据权利要求1或2所述的梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：所述离子源（7）的离子能量在0-3000 eV之间。
所属类别：	实用新型