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原文传递一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法

专利名称：	一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法
摘要：	本申请提供一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，包括以下步骤：设定单层薄膜；设定所述单层薄膜的目标工艺参数A；设置所述目标工艺参数A的值A1,A2......An；以设定规则对所述目标工艺参数A进行排序；按排序后的所述目标工艺参数A的顺序依次在光学基底上制备具有对应所述目标工艺参数A的值的所述单层薄膜，每层所述单层薄膜的其它工艺参数不变，获得分层光学薄膜；获取所述分层光学薄膜的目标光谱；构建所述分层光学薄膜的物理模型，每层所述单层薄膜具有相同的光学常数模型；以所述目标光谱为目标函数，对所述物理模型的每层所述单层薄膜的光学常数进行拟合；计算获得所述单层薄膜的光学常数；获得所述光学常数和所述目标工艺参数A的相关性。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	天津;12
申请人：	天津津航技术物理研究所
发明人：	刘华松;刘丹丹;冷健;尚鹏;杨霄;孙鹏;邢宇哲;顿世杰;何健;孟森;何家欢;徐颖
专利状态：	有效
申请日期：	2021-11-25T00:00:00+0800
发布日期：	2022-03-04T00:00:00+0800
申请号：	CN202111414307.2
公开号：	CN114136896A
代理机构：	天津市鼎拓知识产权代理有限公司
代理人：	刘雪娜
分类号：	G01N21/25;G01N21/41;G01N21/47;G01N21/59;G01N21/21;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/25;G01N21/41;G01N21/47;G01N21/59;G01N21/21
申请人地址：	300000 天津市东丽区空港经济区中环西路58号
主权项：	1.一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于，包括以下步骤：设定单层薄膜；设定所述单层薄膜的目标工艺参数A；设置所述目标工艺参数A的值A1,A2......An(其中，A1＜A2＜A3……＜An)；以设定规则对所述目标工艺参数A进行排序；按排序后的所述目标工艺参数A的顺序依次在光学基底上制备具有对应所述目标工艺参数A的值的所述单层薄膜，每层所述单层薄膜的其它工艺参数不变，获得分层光学薄膜；获取所述分层光学薄膜的目标光谱；构建所述分层光学薄膜的物理模型，每层所述单层薄膜具有相同的光学常数模型；以所述目标光谱为目标函数，对所述物理模型的每层所述单层薄膜的光学常数进行拟合；计算获得所述单层薄膜的光学常数；获得所述光学常数和所述目标工艺参数A的相关性。 2.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述工艺参数A的值排序的设定规则如下：当n为偶数时，按如下方式排列：当n为奇数时，按如下方法排列： 3.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述目标光谱包括透射光谱、反射光谱及椭圆偏振光谱，拟合时选择其中一种或者多种光谱作为拟合目标。 4.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述单层薄膜通过电子束蒸发技术制备。 5.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：所述光学常数模型包括折射率模型，所述折射率模型采用Cauchy模型，所述Cauchy模型见如下公式：其中，r为折射率，Bn、Cn、Dn为拟合参数，λ为波长，k为消光系数。 6.根据权利要求1所述的光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，其特征在于：拟合的评价函数见如下公式：其中，N为测量波长的数目，M为变量个数，Tiexp为i个波长的测量值，Timod为i个波长的计算值，别为i个波长的测量误差。
所属类别：	发明专利