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梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置及方法
| 专利名称： | 梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置及方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是：先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数，用离子束对薄膜进行减薄，再测量减薄后薄膜的椭偏参数，反复进行减薄、测试步骤，直到薄膜减薄到设定步长以下，即可得到最后一薄层的折射率和消光系数，在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数，最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 陕西;61 |
| 申请人： | 西安工业大学 |
| 发明人： | 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;李建超;吴慎将;杨利红;李阳;诗云云 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201811149497.8 |
| 公开号： | CN109001122A |
| 代理机构： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 |
| 代理人： | 黄秦芳 |
| 分类号： | G01N21/21(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/21 |
| 申请人地址： | 710032 陕西省西安市未央区学府中路2号 |
| 主权项： | 1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源（7），所述真空系统包括真空室（4）和样品台（5）；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪（8）；所述样品台（5）安装在真空室（4）的顶部，离子源（7）安装在真空室（4）底部，两者相对而放，离子源（7）的离子束输出口正对样品台设置。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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