专利名称: |
一种各向异性体材料光学常数和欧拉角的提取方法 |
摘要: |
本发明属于各向异性体材料测量相关技术领域,其公开了一种各向异性体材料光学常数和欧拉角的提取方法,该方法包括以下步骤:(1)建立待测样品的测试系统,通过所述测试系统获得待测样品的测量穆勒矩阵光谱Mm;(2)根据4×4矩阵法建立待测样品的正向光学模型,并计算出待测样品的部分传输矩阵;(3)结合光学常数拟合初值及所述部分传输矩阵计算出待测样品的理论穆勒矩阵光谱Mc;(4)计算出理论穆勒矩阵光谱与测量光谱之间的均方根误差,并寻优光学常数以使得该均方根误差小于设定阈值,从而提取出待测样品多波长下的光学常数和欧拉角。本发明的分析过程简单,测量准确性较高,适用性较好,灵活性较高。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
湖北;42 |
申请人: |
华中科技大学 |
发明人: |
江浩;江奎;刘世元;周志康;刘佳敏;谷洪刚;陈修国 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201810891464.4 |
公开号: |
CN109115695A |
代理机构: |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人: |
孔娜;曹葆青 |
分类号: |
G01N21/27(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |
主权项: |
1.一种各向异性体材料光学常数和欧拉角的提取方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)建立待测各向异性体材料的测试系统,通过所述测试系统来测量获得待测各向异性体材料的测量穆勒矩阵光谱Mm;并通过待测各向异性体材料的穆勒矩阵与琼斯矩阵之间的转换关系来计算出该待测各向异性体材料在不同方位角下的伪介电函数,以此伪介电函数作为后续穆勒矩阵光谱反演过程中的光学常数拟合初值;(2)根据4×4矩阵法建立待测各向异性体材料的正向光学模型,并计算出待测各向异性体材料的部分传输矩阵;(3)结合所述光学常数拟合初值及所述部分传输矩阵计算出待测各向异性体材料的理论穆勒矩阵光谱Mc;(4)计算出理论穆勒矩阵光谱与测量穆勒矩阵光谱之间的均方根误差,并采用非线性迭代算法寻优光学常数以使得该均方根误差小于设定阈值,从而提取出待测各向异性体材料多波长下的光学常数和欧拉角。 |
所属类别: |
发明专利 |