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原文传递吸附输送装置

专利名称：	吸附输送装置
摘要：	本实用新型公开了一种吸附输送装置，包括机架、二维运动平台及吸附机构。二维运动平台设置于机架上。吸附机构包括气缸、固定架、吸附块及调节杆。气缸设置于二维运动平台上，固定架与气缸的活塞杆相连接。吸附块安装于固定架上，吸附块上设有吸盘。吸附块设有第一腔体和第二腔体，第一腔体和第二腔体通过连通孔相连通，吸附块的侧壁设有与第一腔体相连通的进气口，第二腔体与吸盘相连通。调节杆的第一端部收容于第一腔体内，中间部通过靠近或远离连通孔以调节通过连通孔的流量大小，第二端部穿过连通孔深入到第二腔体内。吸附输送装置可以调节吸盘吸附力的大小，避免电路片由于引吸附力过大而被损坏，或者吸附力过小而掉落的问题。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	重庆;50
申请人：	重庆驰硕电子科技股份有限公司
发明人：	殷安凯
专利状态：	有效
申请日期：	2018-09-11T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-18T00:00:00+0800
申请号：	CN201821483540.X
公开号：	CN208994659U
代理机构：	重庆鼎慧峰合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	朱浩
分类号：	B65G47/91(2006.01);B;B65;B65G;B65G47
申请人地址：	404500 重庆市潼南区卧佛三仙巷7号
主权项：	1.一种吸附输送装置，其特征在于，包括机架、二维运动平台及吸附机构，所述二维运动平台设置于所述机架上，所述吸附机构包括：气缸，设置于所述二维运动平台上；固定架，与所述气缸的活塞杆相连接；吸附块，安装于所述固定架上，所述吸附块与工件相对的表面设有吸盘，所述吸附块设有第一腔体和第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体通过连通孔相连通，所述吸附块的侧壁设有与所述第一腔体相连通的进气口，所述第二腔体与所述吸盘相连通；及调节杆，包括第一端部、中间部及第二端部，所述中间部位于所述第一端部和所述第二端部之间，所述第一端部收容与所述第一腔体内，所述中间部通过靠近或远离所述连通孔以调节通过所述连通孔的流量大小，所述第二端部穿过所述连通孔伸入到所述第二腔体内。 2.根据权利要求1所述的吸附输送装置，其特征在于，所述吸附块的侧壁开设有调节孔，所述调节孔的侧壁设有内螺纹，所述第一端部设有外螺纹，所述第一端部螺合于所述调节孔内。 3.根据权利要求1所述的吸附输送装置，其特征在于，所述连通孔为圆形孔，所述中间部为圆锥形，且锥顶朝向所述第二腔体；或所述中间部为圆柱形，所述连通孔为锥形孔，且锥顶朝向所述第二腔体。 4.根据权利要求1所述的吸附输送装置，其特征在于，所述二维运动平台包括第一运动平台和第二运动平台，所述第一运动平台设置于机架上，所述第二运动平台设置于第一运动平台上，所述第一运动平台能够带动所述第二运动平台沿X轴方向运动，所述气缸设置于所述第二运动平台上，所述第二运动平台能够带动所述气缸沿Y轴方向运动。 5.根据权利要求4所述的吸附输送装置，其特征在于，所述第一运动平台包括第一滑轨、第一滑块及第一驱动组件，所述第一滑轨设置于所述机架上，所述第一滑块可滑动地设置于所述第一滑轨上，所述第二运动平台设置于所述第一滑块上，所述第一驱动组件设置于所述机架上且与所述第一滑块相连接，以驱动所述第一滑块沿所述第一滑轨滑动。 6.根据权利要求5所述的吸附输送装置，其特征在于，所述第二运动平台包括安装框、第二滑轨、第二滑块及第二驱动组件，所述安装框设置于所述第一滑块上，所述第二滑轨设置于所述安装框上，所述第二滑块可滑动地设置于所述第二滑轨上，所述第二驱动组件设置于所述安装框上且与所述第二滑块相连接，以驱动所述第二滑块沿所述第二滑轨滑动，所述气缸设置于所述第二滑块上。 7.根据权利要求6所述的吸附输送装置，其特征在于，所述第二运动平台还包括横板，所述第二滑轨和所述第二滑块的数量均为两个，两个所述第二滑块间隔平行设置，两个所述滑块分别设置于两个所述第二滑轨上，所述横板的两端分别设置于两个所述第二滑块上，所述气缸通过固定座设置于所述横板上。 8.根据权利要求1所述的吸附输送装置，其特征在于，所述固定架上安装有四个所述吸附块，四个所述吸附块沿圆周方向均匀分布，每个所述吸附块上均设有所述吸盘。 9.根据权利要求1所述的吸附输送装置，其特征在于，还包括检测机构，所述检测机构设置于所述二维运动平台上，所述检测机构用于检测是否有工件经过。
所属类别：	实用新型