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原文传递 图像捕获装置、用图像捕获装置捕获图像的方法和照射装置
专利名称: 图像捕获装置、用图像捕获装置捕获图像的方法和照射装置
摘要: 图像捕获装置1001通过使用太赫兹波来捕获图像,并且包括:生成单元112,包括多个生成元件,每个生成元件生成太赫兹波并且支承在支承面117上;照射光学系统111,用太赫兹波照射被摄体;成像光学系统101,对从被摄体反射的太赫兹波成像;以及传感器102,包括像素。所述多个生成元件至少包括第一生成元件113和第二生成元件114,第一生成元件113和第二生成元件114具有对被摄体的不同照射角度。存在如下的重叠区域,在该重叠区域中从第一生成元件到被摄体的第一太赫兹波156的照射区域和从第二生成元件到被摄体的第二太赫兹波157的照射区域重叠。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 日本;JP
申请人: 佳能株式会社
发明人: 井辻健明;海部纪之
专利状态: 有效
申请日期: 2017-11-16T00:00:00+0800
发布日期: 2019-07-05T00:00:00+0800
申请号: CN201780072390.5
公开号: CN109983322A
代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人: 宋岩
分类号: G01N21/3581(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址: 日本东京
主权项: 1.一种通过使用太赫兹波来捕获图像的图像捕获装置,该图像捕获装置包括: 生成单元,包括多个生成元件,每个生成元件生成太赫兹波并且支承在支承面上; 照射光学系统,用来自生成单元的太赫兹波照射被摄体; 成像光学系统,对从被摄体反射的太赫兹波成像;和 传感器,包括像素并且检测来自成像光学系统的太赫兹波, 其中,所述多个生成元件至少包括第一生成元件和第二生成元件,第一生成元件和第二生成元件具有对被摄体的不同照射角度,并且 其中,存在如下的重叠区域,在该重叠区域中,从第一生成元件到被摄体的第一太赫兹波的照射区域与从第二生成元件到被摄体的第二太赫兹波的照射区域重叠。 2.如权利要求1所述的图像捕获装置, 其中,重叠区域与照射光学系统的成像面上的对应于至少一个像素的观察区域重叠。 3.如权利要求1或权利要求2所述的图像捕获装置, 其中,生成单元的至少一部分支承在照射光学系统的物面上。 4.如权利要求1至3中任一项所述的图像捕获装置, 其中,支承面和物面彼此相交。 5.如权利要求4所述的图像捕获装置, 其中,支承面包括弯曲表面。 6.如权利要求1至5中任一项所述的图像捕获装置, 其中,第一生成元件以第一太赫兹波的辐射图的第一指向轴与照射光学系统的光轴相交的方式支承,并且 其中,第二生成元件以第二太赫兹波的辐射图的第二指向轴与照射光学系统的光轴相交的方式支承。 7.如权利要求1至6中任一项所述的图像捕获装置, 其中,照射光学系统和成像光学系统彼此同轴,并且生成单元插入在照射光学系统和成像光学系统之间。 8.如权利要求1至7中任一项所述的图像捕获装置, 其中,两个相邻生成元件之间的距离不小于0.5λ且不大于36λ,其中λ是来自所述多个生成元件中的所述两个相邻生成元件的太赫兹波的波长中的最长波长。 9.如权利要求8所述的图像捕获装置, 其中,所述两个相邻生成元件之间的距离不小于0.5λ且不大于8λ。 10.如权利要求1至9中任一项所述的图像捕获装置, 其中,第一生成元件和第二生成元件彼此相邻。 11.如权利要求1至10中任一项所述的图像捕获装置,还包括: 扫描单元,将从生成单元入射到被摄体上的太赫兹波的入射角度从第一入射角度改变成第二入射角度;和 处理单元,通过使用检测单元的在第一入射角度处的检测结果和检测单元的在第二入射角度处的检测结果来捕获被摄体的图像。 12.如权利要求1至11中任一项所述的图像捕获装置, 其中,照射光学系统包括透射光学元件。 13.如权利要求1至11中任一项所述的图像捕获装置, 其中,照射光学系统包括反射光学元件。 14.如权利要求1至13中任一项所述的图像捕获装置, 其中,来自生成单元的太赫兹波包括不小于0.3THz且不大于30THz的太赫兹波。 15.如权利要求1至14中任一项所述的图像捕获装置, 其中,来自生成单元的太赫兹波包括不小于0.3THz且不大于1THz的太赫兹波。 16.一种照射装置,包括: 生成单元,包括多个生成元件,每个生成元件生成太赫兹波并且支承在支承面上;和 照射光学系统,用来自生成单元的太赫兹波照射被摄体, 其中,所述多个生成元件至少包括第一生成元件和第二生成元件,第一生成元件和第二生成元件具有对被摄体的不同照射角度,并且 其中,存在如下的重叠区域,在该重叠区域中,从第一生成元件到被摄体的第一太赫兹波的照射区域与从第二生成元件到被摄体的第二太赫兹波的照射区域重叠。 17.一种捕获图像的方法,该方法包括: 从第一生成元件生成第一太赫兹波的第一生成步骤; 从第二生成元件生成第二太赫兹波的第二生成步骤; 使第一太赫兹波和第二太赫兹波收敛在被摄体上的收敛步骤; 对从被摄体反射的第一太赫兹波和第二太赫兹波成像的成像步骤;和 检测在成像步骤处成像的第一太赫兹波和第二太赫兹波的检测步骤, 其中,第一太赫兹波和第二太赫兹波在被摄体上重叠。
所属类别: 发明专利
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