专利名称: |
质量分析装置和质量分析方法 |
摘要: |
本发明提供一种质量分析装置和质量分析方法,其在不使装置大型化的情况下提高对包含夹杂物等第2物质的第1物质的检测精度,并且能够缩短测定时间。一种对试样进行分析的质量分析装置(110),该试样包含由有机化合物构成的第1物质、和由有机化合物构成且质谱的峰与第1物质重叠的1种以上的第2物质,该质量分析装置具备峰校正部(217),该峰校正部基于各第2物质的标准物质的质谱的峰中与第1物质的质谱的峰不重叠的峰A和与第1物质的峰重叠的峰B的非线性的强度的关系F,从试样中的第1物质的质谱的峰C的强度中减去由峰A的强度和关系F在每一规定时间间隔算出的峰B的推定强度的总和,算出第1物质的质谱的净值的峰D的强度。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
日本株式会社日立高新技术科学 |
发明人: |
佐久田昌博;的场吉毅 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-11-12T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-19T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201811337884.4 |
公开号: |
CN110031582A |
代理机构: |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人: |
褚瑶杨;庞东成 |
分类号: |
G01N30/88(2006.01);G;G01;G01N;G01N30 |
申请人地址: |
日本东京都 |
主权项: |
1.一种质量分析装置,其为对包含第1物质和1种以上的第2物质的试样进行分析的质量分析装置,所述第1物质由有机化合物构成,所述第2物质由有机化合物构成且质谱的峰与所述第1物质重叠,所述质量分析装置的特征在于, 具备峰校正部, 所述峰校正部基于各所述第2物质的标准物质的质谱的峰中与所述第1物质的质谱的峰不重叠的峰A和与所述第1物质的所述峰重叠的峰B的非线性的强度的关系F,从所述试样中的所述第1物质的质谱的峰C的强度中减去由所述峰A的强度和所述关系F在每一规定时间间隔算出的所述峰B的推定强度的总和,算出所述第1物质的质谱的净值的峰D的强度。 2.如权利要求1所述的质量分析装置,其中, 所述第2物质存在2种以上, 所述峰校正部从所述峰C的强度中减去关于各所述第2物质的所述推定强度的总和。 3.如权利要求1或2所述的质量分析装置,其中,所述峰校正部在所述推定强度超过规定阈值的情况下算出所述峰D的强度。 4.如权利要求1~3中任一项所述的质量分析装置,其中, 进一步具备将所述第1物质和所述第2物质电离的电离部, 所述峰B归属于所述电离时由所述第2物质生成的碎片离子。 5.如权利要求1~4中任一项所述的质量分析装置,其中,进一步具备在每一时间将所述推定强度和所述峰B的强度重叠显示于规定的显示部的显示控制部。 6.如权利要求1~5中任一项所述的质量分析装置,其中,进一步具备在每一时间将所述推定强度和所述峰C的强度重叠显示于规定的显示部的显示控制部。 7.一种质量分析方法,其为对包含第1物质和1种以上的第2物质的试样进行分析的质量分析方法,所述第1物质由有机化合物构成,所述第2物质由有机化合物构成且质谱的峰与所述第1物质重叠,所述质量分析方法的特征在于, 基于各所述第2物质的标准物质的质谱的峰中与所述第1物质的质谱的峰不重叠的峰A和与所述第1物质的所述峰重叠的峰B的非线性的强度的关系F,从所述试样中的所述第1物质的质谱的峰C的强度中减去由所述峰A的强度和所述关系F在每一规定时间间隔算出的所述峰B的推定强度的总和,算出所述第1物质的质谱的净值的峰D的强度。 |
所属类别: |
发明专利 |