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原文传递通过受控样品蒸发制备无损冷冻载网

专利名称：	通过受控样品蒸发制备无损冷冻载网
摘要：	用于制备样品的方法，其中在载体结构上将该样品提供为薄膜；将载体结构的温度调节到高于环境露点温度的值以减小膜厚度，将光指向载体结构，测量透射光的强度值，并根据测量的强度值将载体结构自动插入液体冷冻剂中。本申请还涉及一种系统，该系统包括载体结构、用于将载体结构保持在预限定温度的温控平台、用于将载体结构移动到包含液体冷冻剂的容器中的转移机构、光源、用于测量透射光的强度值的光电检测器，以及用于根据所测量的强度值触发转移机构的控制装置。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	瑞士;CH
申请人：	巴塞尔大学
发明人：	托马斯·布朗;斯特凡·阿诺尔德;亨宁·施塔尔贝格
专利状态：	有效
申请日期：	2017-10-17T00:00:00+0800
发布日期：	2019-07-26T00:00:00+0800
申请号：	CN201780076600.8
公开号：	CN110062880A
代理机构：	成都超凡明远知识产权代理有限公司
代理人：	魏彦;洪玉姬
分类号：	G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址：	瑞士巴塞尔
主权项：	1.在载体结构(20)上制备样品的方法，其中 -在载体结构(20)上将所述样品提供为具有膜厚度的薄膜； -将所述载体结构(20)的温度调节到高于环境的露点温度的值，使得所述膜度厚减小； -将光指向所述载体结构(20)； -测量由所述载体结构(20)透射的光的至少一个强度值； -根据测量的所述至少一个强度值将所述载体结构(20)自动插入液体冷冻剂(80)中，使得所述样品冷却成无定形固体。 2.根据权利要求1所述的方法，其中，当测量的所述至少一个强度值超过预定阈值时，将所述载体结构(20)自动插入所述液体冷冻剂(80)中。 3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，将所述载体结构(20)的温度调节到高于所述环境的所述露点温度2°至8°的值。 4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过在将所述温度调节到高于所述环境的所述露点温度的值之前进行吸干或再吸入来减小所述膜厚度。 5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述光的波长在近红外范围内，其中特别地，所述波长为780nm或更大。 6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述光沿着光路(L)指向所述载体结构(20)，所述光路垂直于所述载体结构(20)的表面。 7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过将预限定量的所述样品吸入到毛细管并通过所述毛细管将所述样品分配到所述载体结构(20)上来将所述样品提供在所述载体结构(20)上。 8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，执行附加的校准步骤，其中所述光指向没有所述样品的参比载体结构(20)，并且其中测量由所述参比载体结构(20)透射的光的至少一个参考强度值，并且其中根据测量的所述至少一个强度值与所述至少一个参考强度值之间的比率将承载所述样品的所述载体结构(20)自动插入所述液体冷冻剂(80)中。 9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，指向所述样品的光至少包括：第一波长的光，特别是在600nm和900nm之间的范围内，更特别地在780nm和880nm之间的范围内或者在630nm和670nm之间的范围内；以及第二波长的光，特别是在350nm和500nm之间的范围内，更特别地在405nm和450nm之间的范围内。 10.用于在载体结构(20)上制备样品的系统(100)，包括 -载体结构(20)，所述载体结构配置为容纳样品， -温控平台(1)，所述温控平台配置为当所述载体结构(20)布置在所述温控平台(1)上时将所述载体结构(20)保持在预限定温度， -转移机构(60)，所述转移机构配置为将所述载体结构(20)从所述温控平台(1)移动到包含液体冷冻剂(80)的容器(12)中，使得所述载体结构(80)上的所述样品接触所述冷冻剂(80)，其特征在于，所述系统(100)包括 -光源(13)，所述光源配置为提供指向所述载体结构(20)的光， -光电检测器(14)，所述光电检测器配置为测量由所述载体结构(20)透射的光的至少一个强度值， -控制装置(30)，所述控制装置配置为从所述光电检测器(14)接收测量的所述强度值，并且根据测量的所述至少一个强度值触发所述转移机构(60)，使得所述载体结构(20)插入包含所述液体冷冻剂(80)的所述容器(12)中。 11.根据权利要求10所述的系统(100)，其特征在于，所述光源(13)适于沿着光路(L)发射光，其中所述载体结构(20)和所述光电检测器(14)沿着所述光路(L)布置，使得所述光的至少一部分从所述光源(13)沿着所述光路(L)通过所述载体结构(20)传播到所述光电检测器(14)，其中特别地，所述载体结构(20)布置为垂直于所述光路(L)。 12.根据权利要求10或11所述的系统(100)，其特征在于，所述系统(100)包括配置为保持所述载体结构(20)的第一适配器(3)，其中所述转移机构(60)配置为连接到保持所述载体结构(20)的所述第一适配器(3)，并且其中所述转移机构(60)配置为将所述第一适配器(3)与所述载体结构(20)一起枢转到所述容器(12)上方的竖向位置，并且在所述枢转之后，将所述第一适配器(3)和所述载体结构(20)向下移动，使得所述载体结构(20)上的所述样品接触所述容器(8)中的所述冷冻剂(80)。 13.根据权利要求10至12中任一项所述的系统(100)，其特征在于，所述系统(100)包括调节装置(5)，所述调节装置配置为以可调节的方式相对于所述温控平台(1)保持所述第一适配器(3)，其中所述调节装置(5)包括保持装置(50)，特别地为电磁体(50)的形式，所述保持装置配置为可释放地保持所述第一适配器(3)，并当所述样品位于所述载体结构(20)上时自动释放所述第一适配器(3)。 14.根据权利要求10至13中任一项所述的系统(100)，其特征在于，所述转移机构(60)包括第二适配器(7)，其中所述第一适配器(3)和所述第二适配器(7)设计成当所述保持装置(50)释放所述第一适配器(3)时彼此接合，并且其中所述转移机构(60)设计成当所述第一适配器(3)与所述第二适配器(7)接合并从所述保持装置(50)释放时，将所述第二适配器(7)在所述容器(12)上方枢转。 15.根据权利要求10至14中任一项所述的系统(100)，其特征在于，所述系统(100)包括液体处理系统，所述液体处理系统包括分配头(11)，其中所述液体处理系统配置为通过所述分配头(11)吸入并分配一定体积的样品，其中所述系统(100)还包括第一贮存器，含有纳升体积的样品的所述分配头(11)可以浸入所述第一贮存器中，以允许扩散控制的样品调节，例如用于在沉积在所述载体结构(20)上之前对缓冲液进行脱盐或交换。
所属类别：	发明专利