专利名称: |
基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法 |
摘要: |
本发明公开了一种基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,首先制备石英基单层聚合物胶体晶体阵列做为模板;然后在模板的表面沉积一层厚度为20~40nm的金膜;再对其进行热分解及退火处理,制得石英基二维金纳米阵列;之后将其倾斜置于FeIII‑MOF‑5的反应液中,110度下反应6个小时;自然降至室温后,取出样品乙醇冲洗并自然晾干,即可获得二维Au@FeIII‑MOF‑5纳米颗粒阵列,可直接作为用于检测HCl浓度的气体传感器。能够在借助FeIII‑MOF‑5对HCl特定的响应以及二维Au存在LSPR和光学衍射的光学特性,从而可以实时地对HCl的浓度进行快速检测,而且该可视化传感器的制备工序简单、成本低廉、容易操作,适合实际工业应用。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江西;36 |
申请人: |
江西科技师范大学 |
发明人: |
门丹丹;向军淮;黄隆;张洪华 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-04-17T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-26T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910309172.X |
公开号: |
CN110057783A |
代理机构: |
北京凯特来知识产权代理有限公司 |
代理人: |
郑立明;赵镇勇 |
分类号: |
G01N21/47(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
330038 江西省南昌市红角洲学府大道589号 |
主权项: |
1.一种基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,其特征在于,采用以下步骤制备而成: 步骤A、制备石英基单层聚合物胶体晶体阵列,并以该石英基单层聚合物胶体晶体阵列为模板; 步骤B、采用物理沉积方法在所述模板的表面沉积一层厚度为20~40nm的金膜; 步骤C、对上述沉积有金膜的模板进行热分解及退火处理,以去除单层聚合物胶体晶体阵列,从而制得石英基二维金纳米阵列; 步骤D、将制备石英基二维金纳米阵列将置于FeIII-MOF-5的反应液中,加盖密封,于110度下反应6个小时;自然降至室温后,打开反应釜,取出样品,乙醇冲洗多次,置于空气中自然晾干,即可获得二维Au@FeIII-MOF-5纳米颗粒阵列;将该二维Au@FeIII-MOF-5纳米颗粒阵列直接作为用于检测HCl浓度的气体传感器。 2.根据权利要求1所述的基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,其特征在于,所述对HCl气体分子敏感的MOFs壳层是采用以下方法制备而成: 步骤C1、将乙酰丙酮铁(60mg),六水硝酸锌(46.4mg),对苯二甲酸(9.6mg),聚乙烯吡咯烷酮(200mg)经搅拌溶于16mL N,N-二甲基甲酰胺和9.6mL乙醇中,待用; 步骤C2、将步骤C1制备的混合液转移在带有四氟乙烯内衬的反应釜中,倾斜插入二维Au纳米颗粒阵列,加盖密封,于110度下反应6个小时;自然降至室温后,打开反应釜,取出样品,乙醇冲洗多次,置于空气中自然晾干,即可获得二维非密排Au@FeIII-MOF-5纳米颗粒阵列。 3.根据权利要求1至2中任一项所述的基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,其特征在于,所述的制备的石英基二维Au纳米颗粒阵列聚包括: 以石英基底上的二维聚合物微球阵列为模板,经沉积Au层,高温900-1000℃退火2小时而制备的。 4.根据权利要求3所述的基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,其特征在于,所述的物理沉积方法包括磁控溅射沉积、热蒸发沉积或者电子束蒸发沉积。 5.根据权利要求3所述的基于二维Au@MOFs纳米颗粒有序阵列的HCl气体传感器制备方法,其特征在于,所述的对上述沉积有金膜的模板进行热分解及退火处理包括: 将上述沉积有金膜的模板放入管式炉中,并在900-1000℃空气气氛下加热退火2小时,石英基上的单层聚合物胶体晶体阵列受热分解,而石英基上的Au膜会熔化、融合、原位凝固,从而形成周期性的石英基二维Au纳米颗粒阵列。 |
所属类别: |
发明专利 |