专利名称: |
一种上液面照射方式X荧光分析技术用液体样品元素分析的检测方法 |
摘要: |
本发明涉及一种上液面照射方式X荧光分析技术对液体样品元素分析的检测方法,包括如下步骤:样品上液面照射方式测量步骤;液面高度校正的基准元素谱峰的确定步骤;液面高度校正系数的算法建立步骤;实测样品液面高度校正的强度计算步骤。本发明可以消除上液面照射方式X荧光测量时液面高度变化对液体样品元素含量结果的影响,所测量的结果可重复性更强,精度更高。且无需像常规液体测量时安装聚酯薄膜,更加节约成本。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
上海;31 |
申请人: |
上海精谱科技有限公司 |
发明人: |
苏建平;郭晓明;潘彪 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-02-18T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-04-23T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910123487.5 |
公开号: |
CN109668920A |
代理机构: |
上海天翔知识产权代理有限公司 |
代理人: |
吕伴 |
分类号: |
G01N23/223(2006.01);G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
201806 上海市嘉定区西冈身路569号 |
主权项: |
1.一种上液面照射方式X荧光分析技术用液体样品元素分析的检测方法,其特征在于,包括如下步骤: 样品上液面照射方式测量步骤:采用上侧为X光管及探测器,而下侧为待测液体样品的方式,液体样品注入样品杯,所述样品杯上液面直接受照射激发后测量; 液面高度校正的基准元素谱峰的确定步骤:接着对液面高度校正的基准元素谱峰进行确定,所述液面高度校正的基准元素谱峰为X射线管靶材Rh La的康普顿散射峰; 液面高度校正系数的算法建立步骤:所述建立的液面高度校正系数的算法为校正元素的相对强度与基准元素的相对强度之间采用二次曲线最小二乘法拟合方式; 实测样品液面高度校正的强度计算步骤:所述实测样品液面高度校正的强度计算为各个元素的初始强度通过液面校正系数与基准元素强度计算出校正后的强度。 2.如权利要求1所述的一种上液面照射方式X荧光分析技术用液体样品元素分析的检测方法,其特征在于,所述的方法具体包括如下步骤: 首先测量不同液面高度时的X荧光谱图,接着选定可以进行液面高度校正的基准元素谱峰,即为X射线管靶材Rh La的康普顿散射峰,然后计算各个分析元素谱峰的强度;接着计算各元素及基准元素在不同液面高度下对基准液面时的相对强度,针对各个元素的相对强度与基准元素的相对强度进行二次曲线拟合,得到各个元素在不同液面高度下强度与所述基准元素强度之间的系数,得到校正系数,保存待用; 对实测样品进行谱图测量,来计算各个元素谱峰的实测强度,接着通过所述校正系数来计算得出各个元素校正后的强度,最后通过各个元素校正后强度计算出各个分析元素的含量值。 |
所属类别: |
发明专利 |