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荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法
| 专利名称： | 荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 |
| 摘要： | 提供荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法，能够在同一试样容器内不变更配置地测定分析深度不同的元素。荧光X射线分析装置具有：试样容器(4)，其能够收纳试样(S)；X射线源(2)，其向试样照射原级X射线(X1)；检测器(3)，其检测从被照射了原级X射线的试样产生的荧光X射线(X2)；以及照射范围变更机构(5)，其能够变更向试样容器内的试样照射原级X射线的范围，照射范围变更机构能够变更为局部照射和宽范围照射，在该局部照射中，至少向靠近试样容器的与检测器对置的壁面的试样照射原级X射线，在该宽范围照射中，以比局部照射大的区域向试样容器内的试样照射原级X射线。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 发明人： | 深井隆行;的场吉毅;大柿真毅 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811024591.0 |
| 公开号： | CN109459458A |
| 代理机构： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
| 代理人： | 黄纶伟;孙明浩 |
| 分类号： | G01N23/223(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具有：试样容器，其能够收纳试样；X射线源，其向所述试样照射原级X射线；检测器，其检测从被照射了所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线；以及照射范围变更机构，其能够变更向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线的范围，所述照射范围变更机构能够变更为局部照射和宽范围照射，在该局部照射中，至少向靠近所述试样容器的与所述检测器对置的壁面的所述试样照射所述原级X射线，在该宽范围照射中，以比所述局部照射大的区域向所述试样容器内的所述试样照射所述原级X射线。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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