专利名称: |
波长色散型荧光X射线分析装置 |
摘要: |
一种波长色散型荧光X射线分析装置,包括单一的一维检测器(10),该一维检测器(10)具有呈直线状而排列的多个检测元件(7),该波长色散型荧光X射线分析装置包括检测器位置变更机构(11),该检测器位置变更机构(11)用于针对一维检测器(10)的位置,设定在检测元件(7)的排列方向与分光元件(6)中的分光角度方向平行的平行位置和与该分光元件(6)中的分光角度方向相交叉的交叉位置中的任意者,在平行位置,一维检测器(10)的感光面位于汇聚二次X射线(42)的焦点处,在交叉位置,感光狭缝(9)设置于汇聚二次X射线(42)的焦点处,一维检测器(10)的感光面位于感光狭缝(9)的与分光元件(6)离开的汇聚二次X射线(42)的行进方向侧。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
株式会社理学 |
发明人: |
加藤秀一;山田隆;片冈由行 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2017-08-31T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201780059601.1 |
公开号: |
CN109791116A |
代理机构: |
北京三幸商标专利事务所(普通合伙) |
代理人: |
刘卓然 |
分类号: |
G01N23/223(2006.01);G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
日本东京都 |
主权项: |
1.一种波长色散型荧光X射线分析装置,该波长色散型荧光X射线分析装置为汇聚光学系统的波长色散型荧光X射线分析装置,其包括: X射线源,该X射线源对试样照射一次X射线; 发散狭缝,该发散狭缝使由试样产生的二次X射线通过; 分光元件,该分光元件对通过该发散狭缝的二次X射线进行分光,将其汇聚; 单一的一维检测器,该一维检测器包括多个检测元件,该多个检测元件呈直线状排列,其感光面与通过上述分光元件对二次X射线进行汇聚而形成的汇聚二次X射线的光轴相垂直; 该波长色散型荧光X射线分析装置包括检测器位置变更机构,该检测器位置变更机构用于针对一维检测器的位置,自由变更地设定在平行位置和交叉位置中的任意者,该平行位置中,上述检测元件的排列方向为分光元件中的分光角度方向,该交叉位置中,上述检测元件的排列方向与上述分光元件中的分光角度方向相交叉; 在上述一维检测器设定在上述平行位置的状态,上述一维检测器的感光面位于汇聚二次X射线的焦点处; 在上述一维检测器设定在上述交叉位置的状态,具有开口的感光狭缝设置于汇聚二次X射线的焦点处,该开口的纵向与上述分光元件中的分光角度方向相正交,上述一维检测器的感光面位于上述感光狭缝的与上述分光元件离开的聚光二次X射线的行进方向侧。 2.根据权利要求1所述的波长色散型荧光X射线分析装置,其中,包括: 检测区域设定机构,该检测区域设定机构在上述检测元件的排列方向,设定与测定对象的荧光X射线相对应的作为上述检测元件的区域的峰值区域,与和测定对象的荧光X射线的本底相对应的作为上述检测元件的区域的多个本底区域; 定量机构,该定量机构在上述一维检测器设定在上述平行位置的状态,根据对位于上述峰值区域的上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的峰值强度,针对每个该本底区域而对上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的本底强度,以及预先输入的本底补偿系数,计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度,进行定量分析。 3.根据权利要求1所述的波长色散型荧光X射线分析装置,其中,包括定量机构,该定量机构在上述一维检测器设定在上述交叉位置的状态,通过对全部的上述检测元件的检测强度进行累加计算,计算测定对象的荧光X射线的强度,进行定量分析。 4.根据权利要求1~3中任一项所述的波长色散型荧光X射线分析装置,其中,上述交叉位置为上述检测元件的排列方向与上述分光元件中的分光角度方向相正交的正交位置,以及上述检测元件的排列方向以规定角度而和上述分光元件中的分光角度方向相斜交的单一的斜交位置中的任意一者。 5.根据权利要求1~3中任一项所述的波长色散型荧光X射线分析装置,其中,上述一维检测器的感光面为矩形; 上述交叉位置为上述一维检测器的感光面的对角线方向与上述分光元件中的分光角度方向相正交的对角线位置。 |
所属类别: |
发明专利 |