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波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法
| 专利名称： | 波长分散型荧光X射线分析装置和采用它的荧光X射线分析方法 |
| 摘要： | 本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 株式会社理学 |
| 发明人： | 加藤秀一;片冈由行;藤村一;山田隆 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201780028012.7 |
| 公开号： | CN109196340A |
| 代理机构： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 |
| 代理人： | 刘卓然 |
| 分类号： | G01N23/223(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 1.一种波长分散型荧光X射线分析装置，该波长分散型荧光X射线分析装置为集中光学系统的波长分散型荧光X射线分析装置，其包括：X射线源，该X射线源对试样照射一次X射线；发散狭缝，该发散狭缝使由试样产生的二次X射线通过；分光元件，该分光元件对通过该发散狭缝的二次X射线进行分光，将其汇聚；位置敏感型检测器，该位置敏感型检测器包括多个检测元件，该多个检测元件在上述分光元件中的分光角度方向排列，针对通过上述分光元件对二次X射线进行汇聚而形成的汇聚二次X射线，通过对应的上述检测元件，检测构成汇聚二次X射线的不同的分光角度的二次X射线的各强度；上述发散狭缝、上述分光元件和位置敏感型检测器固定；该波长分散型荧光X射线分析装置包括：测定波谱显示机构，该测定波谱显示机构将上述检测元件的排列方向的位置和上述检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器中；检测区域设定机构，在该检测区域设定机构中，借助操作人员，在上述检测元件的排列方向设定峰值区域和本底区域，该峰值区域为与测定对象的荧光X射线相对应的上述检测元件的区域，该本底区域为与测定对象的荧光X射线的本底相对应的上述检测元件的区域；定量机构，该定量机构根据峰值强度、本底强度与预先计算的本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析，该峰值强度是对位于上述峰值区域的上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的，该本底强度是对位于上述本底区域的上述检测元件的检测强度进行累加计算而得到的。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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