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一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统
| 专利名称： | 一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统 |
| 摘要： | 本发明涉及一种倒置结构大视场Mirco‑CT扫描成像系统，属于图像成像领域。该系统包括基于电子束扫描方式产生面阵微焦点的X射线射线源、COMS或CCD超高分辨率小型化探测器、精密转台以及计算机与CT图像重建系统等组成。该系统既具有扫描视场大、信噪比高、结构简单等优点，还可在降低对射线源焦点尺寸条件下仍可获得很高的空间分辨率，突破了射线源焦点尺寸限制CT分辨率的提高的技术瓶颈，解决了传统Micro‑CT几何放大成像方式存在扫描视场小、射线源剂量弱、扫描效率低等缺点和不足。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 重庆大学 |
| 发明人： | 周日峰;唐杰;胡小龙;谢东洋;刘渝川 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 1900-01-20T03:00:00+0805 |
| 发布日期： | 1900-01-20T00:00:00+0805 |
| 申请号： | CN202010005615.9 |
| 公开号： | CN111077173A |
| 代理机构： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 赵荣之 |
| 分类号： | G01N23/046;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/046 |
| 申请人地址： | 400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号 |
| 主权项： | 1.一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：包括电子束扫描面阵微焦射线源、超高分辨率探测器和精密转台； 所述电子束扫描面阵微焦射线源与超高分辨率探测器保持一定距离； 所述电子束扫描面阵微焦射线源通过多次投影覆盖住整个检测物体； 所述检测物体位于倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统的视场范围内； 电子束扫描面阵微焦射线源按时间序列逐个焦点发出X射线束，X射线束穿过检测物体后，由超高分辨率探测器同步完成图像采集； 检测物体旋转一分度角度后，电子束扫描面阵微焦射线源和超高分辨率探测器再完成另一分度下的图像采集，检测物体依次旋转，直到完成360度的扫描。 2.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述电子束扫描面阵微焦射线源的焦点在1×1～1024×1024阵列范围内根据检测样品的需要设置，有效焦点尺寸优于2μm，电子束在透射靶面扫描的总范围为5～20mm。 3.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述超高分辨率探测器为CCD或COMS超高分辨率探测器，像元尺寸为4～12μm。 4.根据权利要求3所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述超高分辨率探测器分辨率优于20lp/mm，有效探测面积为10～35×10～35mm2。 5.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述精密转台的双向重复分度精度：0.0011°；绝对精度：0.01°；径向跳动：≤3μm；轴向跳动：≤10μm。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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