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原文传递一种比率荧光分子印迹聚合物及其制备方法和应用

专利名称：	一种比率荧光分子印迹聚合物及其制备方法和应用
摘要：	一种比率荧光分子印迹聚合物及其制备方法和应用，通过一步法在二氧化硅纳米粒子表面溶胶‑凝胶聚合印迹，以C型利钠肽为模板分子、3‑氨丙基三乙氧基硅烷为功能单体、正硅酸四乙酯为交联剂、同时接枝两种APTES修饰的荧光纳米材料碳点和硝基苯并恶唑，洗脱模板分子，得到比率荧光分子印迹聚合物纳米粒子。本发明通过一步法优化了比率荧光分子印迹聚合物的制备，耗时少，工艺简单。本发明合成的比率荧光分子印迹聚合物对印迹分子具有高度的亲和力和选择性，且制备成本低廉，工艺稳定，能耗小，可以对生物样品中C型利钠肽进行高效的分离和检测，可望解决生物标志物难以分离、检测的难题。
专利类型：	发明专利
申请人：	南京医科大学附属逸夫医院
发明人：	何宏亮;陈立娜;曹敏;杨俭;唐玉林
专利状态：	有效
申请日期：	1900-01-20T20:00:00+0805
发布日期：	1900-01-20T17:00:00+0805
申请号：	CN202010064766.1
公开号：	CN111024673A
代理机构：	南京经纬专利商标代理有限公司
代理人：	唐循文
分类号：	G01N21/64;C09K11/06;G;C;G01;C09;G01N;C09K;G01N21;C09K11;G01N21/64;C09K11/06
申请人地址：	211166 江苏省南京市江宁区龙眠大道109号
主权项：	1.一种比率荧光分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于由以下步骤制得：通过一步法在二氧化硅纳米粒子表面溶胶-凝胶聚合印迹，以C型利钠肽（CNP）为模板分子、3-氨丙基三乙氧基硅烷（APTES）为功能单体、正硅酸四乙酯（TEOS）为交联剂、同时接枝两种APTES修饰的荧光纳米材料碳点（CDs）和硝基苯并恶唑（NBD），洗脱模板分子，得到比率荧光分子印迹聚合物纳米粒子。 2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于制备步骤为：氨基化二氧化硅的制备：按比例，将15 mL质量浓度为25％氨水加到250 mL无水乙醇中，室温下搅拌均匀，30 min后加入2.5 mL TEOS，反应12 h，再加入1.25 mL TEOS和0.1 mLAPTES；12 h后，产物离心分离，乙醇和去离子水洗至中性，然后分散至10 mL超纯水中，得到溶液A，4 ℃保存，所述氨基化二氧化硅的尺寸为100～150 nm； APTES修饰CDs的制备：按比例，将0.4 g柠檬酸钠加入8 mL超纯水中搅拌溶解，再加入APTES，转移至反应釜中200 ℃反应2 h；反应液用500 KDa的透析袋透析12 h后，氮吹仪吹至5 mL，得到APTES-CDs，置于4 ℃避光保存；所述柠檬酸盐的质量与APTES的体积之比为1:3～1:6 g/mL； APTES修饰NBD的制备：取洁净干燥的两口烧瓶，装干燥管，用锡纸包好；在避光条件下，取NBD-Cl置于三口烧瓶中，依次加入APTES，无水乙醇，通30 min氮气，冰浴搅拌24 h，得到APTES-NBD，装入试剂瓶内，密封避光保存备用；所述NBD-Cl与APTES的摩尔比为1:30～1:50；比率荧光分子印迹聚合物的制备：按比例，将溶液A离心除去上清液，加入25 mL PBS，超声分散后，加入CNP、APTES-CDs以及APTES-NBD，搅拌1.5 h后，加入TEOS和质量浓度为25％氨水，搅拌过夜；反应结束后离心除去上清液，用超纯水洗涤，除去未反应完的单体，再将10% (v/v) HAc-10% (w/v) SDS溶液反复超声洗涤，直至上清液紫外检测不到模板分子为止，最后用超纯水洗去多余的HAc和SDS，将产物4 ℃冷冻干燥12 h，得到比率荧光分子印迹聚合物。 3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述溶液A的体积为1～5mL；CNP的质量为5～15 mg；APTES-CDs与APTES-NBD的体积比为1:2～1:5；TEOS的体积为100～300 μL；TEOS与氨水的体积比为1:1～1:3。 4.权利要求1-3任一所述制备方法制得的比率荧光分子印迹聚合物。 5.权利要求4所述比率荧光分子印迹聚合物在制备C型利钠肽特异性识别产品中的应用。
所属类别：	发明专利