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原文传递一种增材制造图谱式应力分析方法

专利名称：	一种增材制造图谱式应力分析方法
摘要：	本发明提供了一种增材制造图谱式应力分析方法，通过将基板打磨抛光，用丙酮对基板做进一步清洗处理；在多个基板上一一对应的采用单变量法而增材制造出多个样品；分割多个样品，得到每个样品的多个横截切面；分析每个样品的多个横截切面的激光能量密度残余应力、粉晶密度残余应力以及激光比能量残余应力，并归类，归类后根据激光能量密度残余应力、粉晶密度残余应力、以及激光比能量残余应力的变化生成图谱，从而实现以图谱形式展示增材制造过程中的残余应力曲线的技术效果。
专利类型：	发明专利
申请人：	东莞理工学院
发明人：	徐进;陈胜贵;陈海彬;孙振忠
专利状态：	有效
申请日期：	1900-01-20T20:00:00+0805
发布日期：	1900-01-20T08:00:00+0805
申请号：	CN201911322546.8
公开号：	CN111122448A
代理机构：	广东勤诺律师事务所
代理人：	张雪华
分类号：	G01N21/17;G01L5/00;G;G01;G01N;G01L;G01N21;G01L5;G01N21/17;G01L5/00
申请人地址：	523000 广东省东莞市松山湖科技产业园区大学路1号
主权项：	1.一种增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，包括：准备阶段，将基板打磨抛光，用丙酮对所述基板做进一步清洗处理；试验阶段，在多个所述基板上一一对应的采用单变量法而增材制造出多个样品，所述单变量法包括控制激光功率、控制粉晶送粉速度和控制扫描速度；取样阶段，分割所述多个样品，得到每个样品的多个横截切面；分析阶段，分析所述每个样品的多个横截切面的激光能量密度残余应力、粉晶密度残余应力以及激光比能量残余应力，并归类；成谱阶段，归类后根据所述激光能量密度残余应力、所述粉晶密度残余应力、以及所述激光比能量残余应力的变化生成图谱。 2.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，所述基板的材料为TA15钛合金。 3.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，所述分割所述多个样品，得到每个样品的多个横截切面的步骤，包括：采用等比切割法分割所述多个样品。 4.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，所述分析所述每个样品的多个横截切面的激光能量密度残余应力的步骤，包括：分析所述多个横截切面的颜色焦黑程度，以分析所述多个横截切面的激光能量密度残余应力。 5.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，分析所述每个样品的多个横截切面粉晶密度残余应力的步骤包括：对所述多个横截切面进行压痕法处理，以得到所述多个横截切面的粉晶密度残余应力。 6.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，所述分析所述每个样品的多个横截切面的激光比能量残余应力的步骤，包括：采用预设公式，根据设定好的激光功率、粉晶送粉速度和扫描速度分析出多个横截切面的激光比能量残余应力。 7.根据权利要求1所述的增材制造图谱式应力分析方法，其特征在于，所述成谱阶段的步骤之后，还包括：推荐阶段，比对所述激光能量密度残余应力、所述粉晶密度残余应力、以及所述激光比能量残余应力的图谱，推导出残余应力值最小的图谱。
所属类别：	发明专利