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原文传递分析装置、分析方法、记录介质及等离子体处理控制系统

专利名称：	分析装置、分析方法、记录介质及等离子体处理控制系统
摘要：	本发明提供分析装置、分析方法、记录介质及等离子体处理控制系统，用于使用在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组来定量地评价处理空间的状态。分析装置具有：计算部，其将在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组中的、在作为比控制区间靠前的规定时间的判断区间中测定的时间序列数据组输入到时间序列分析模型中，来计算相对于所述处理空间的基准状态的偏离度；以及确定部，其基于进行所述计算得到的偏离度来确定特性值，该特性值用于决定所述控制区间中的对基板进行等离子体处理时的控制数据。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	东京毅力科创株式会社
发明人：	永井龙;田中康基;赤羽修平
专利状态：	有效
申请日期：	2021-09-08T00:00:00+0800
发布日期：	2022-03-25T00:00:00+0800
申请号：	CN202111049709.7
公开号：	CN114235787A
代理机构：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	刘新宇
分类号：	G01N21/73;H01J37/32;G;H;G01;H01;G01N;H01J;G01N21;H01J37;G01N21/73;H01J37/32
申请人地址：	日本东京都
主权项：	1.一种分析装置，具有：计算部，其将在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组中的、在作为比控制区间靠前的规定时间的判断区间中测定的时间序列数据组输入到时间序列分析模型中，来计算相对于所述处理空间的基准状态的偏离度；以及确定部，其基于进行所述计算得到的偏离度来确定特性值，该特性值用于决定所述控制区间中的对基板进行等离子体处理时的控制数据。 2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，还具有学习部，该学习部使用在所述处理空间中在所述基准状态下进行蚀刻处理时测定出的时间序列数据组来对所述时间序列分析模型进行机器学习，并计算表示第一节点的时间序列数据与第二节点的时间序列数据之间的关系的值，所述计算部基于使以下的差为规定的阈值以上的第一节点的数量来计算所述偏离度，所述差为通过将从在所述判断区间中测定的时间序列数据组中提取的第一节点的时间序列数据输入到所述时间序列分析模型中来推断出的第二节点的时间序列数据与从在所述判断区间中测定的时间序列数据组中提取的第二节点的时间序列数据之差。 3.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，所述确定部基于进行所述计算得到的偏离度来确定蚀刻速率，该蚀刻速率用于决定比所述判断区间靠后的控制区间中的蚀刻处理时的控制数据。 4.根据权利要求1～3中的任一项所述的分析装置，其特征在于，所述判断区间是在蚀刻处理中接通等离子体源后的规定时间，所述控制区间是比所述判断区间靠后的所述蚀刻处理的区间。 5.根据权利要求1～3中的任一项所述的分析装置，其特征在于，所述判断区间是开始蚀刻处理之前的规定时间，所述控制区间是从所述蚀刻处理开始到结束的区间。 6.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述时间序列数据组是由发射光谱分析装置测定出的发射光谱数据或者由质谱装置测定出的质量分析数据。 7.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述时间序列数据组是由工艺数据获取装置测定出的工艺数据组。 8.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述时间序列数据组是由等离子体装置测定出的等离子体物理量的时间序列数据组。 9.根据权利要求2所述的分析装置，其特征在于，表示所述关系的值包括以通过将第一节点的时间序列数据输入到规定的公式中来导出第二节点的时间序列数据的方式计算出的自相关、互相关或者时间延迟。 10.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述计算部使用与所述时间序列数据组中包括的时间序列数据的种类数相应的数量的偏差值探测模型来计算所述偏离度，以取代使用所述时间序列分析模型来计算所述偏离度。 11.根据权利要求10所述的分析装置，其特征在于，所述确定部根据基于二值信息计算出的所述偏离度来确定所述特性值，所述二值信息是表示是否存在由所述偏差值探测模型中的特定的模型判定出的偏差值的信息。 12.一种等离子体处理控制系统，具有：根据权利要求1～11中的任一项所述的分析装置；以及控制装置，其基于所述特性值来决定对所述基板进行等离子体处理时的控制数据。 13.一种分析方法，包括以下工序：将在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组中的、在作为比控制区间靠前的规定时间的判定区间中测定的时间序列数据组输入到时间序列分析模型中，来计算相对于所述处理空间的基准状态的偏离度；以及基于进行所述计算得到的偏离度来确定特性值，该特性值用于决定所述控制区间中的对基板进行等离子体处理时的控制数据。 14.一种非易失性计算机可读记录介质，存储有用于使计算机执行以下工序的分析程序：将在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组中的、在作为比控制区间靠前的规定时间的判定区间中测定的时间序列数据组输入到时间序列分析模型中，来计算相对于所述处理空间的基准状态的偏离度；以及基于所述计算出的偏离度来确定特性值，该特性值用于决定所述控制区间中的对基板进行等离子体处理时的控制数据。
所属类别：	发明专利