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原文传递半导体工艺设备

专利名称：	半导体工艺设备
摘要：	本实用新型公开一种半导体工艺设备，包括工艺腔体、气体取样管道、第一气液分离装置、液体收集容器和氧含量分析仪，其中：所述第一气液分离装置设有第一入口和与所述第一入口连通的第一出口，所述气体取样管道的第一端部与所述工艺腔体连通，所述气体取样管道的第二端部与所述第一入口连通，所述液体收集容器和所述氧含量分析仪均与所述第一出口连通，所述氧含量分析仪位于所述第一出口的上方。上述方案可以解决相关技术中在检测工艺腔体内的氧含量时，工艺腔体内的副产物在检测管路和氧含量分析仪中冷却成液体容易对检测管路和氧含量分析仪造成堵塞的问题。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	北京北方华创微电子装备有限公司
发明人：	李岑;杨帅
专利状态：	有效
申请日期：	2022-07-25T00:00:00+0800
发布日期：	2022-12-09T00:00:00+0800
申请号：	CN202221929059.5
公开号：	CN218003378U
代理机构：	北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人：	施敬勃
分类号：	G01N33/00;B01D53/30;B01D53/00;B01D53/26;H01L21/67;G;B;H;G01;B01;H01;G01N;B01D;H01L;G01N33;B01D53;H01L21;G01N33/00;B01D53/30;B01D53/00;B01D53/26;H01L21/67
申请人地址：	100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
主权项：	1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括工艺腔体（100）、气体取样管道（200）、第一气液分离装置（300）、液体收集容器（400）和氧含量分析仪（500），其中：所述第一气液分离装置（300）设有第一入口和与所述第一入口连通的第一出口，所述气体取样管道（200）的第一端部与所述工艺腔体（100）连通，所述气体取样管道（200）的第二端部与所述第一入口连通，所述液体收集容器（400）和所述氧含量分析仪（500）均与所述第一出口连通，所述氧含量分析仪（500）位于所述第一出口的上方。 2.根据权利要求1所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述气体取样管道（200）的第一端部连接于所述工艺腔体（100）的顶部。 3.根据权利要求1所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述半导体工艺设备还包括第二气液分离装置（600），所述第二气液分离装置（600）设有第二入口（630）和与所述第二入口（630）连通的第二出口，所述第二入口（630）与所述第一出口连通，所述第二出口与所述氧含量分析仪（500）连通，所述氧含量分析仪（500）位于所述第二出口的上方。 4.根据权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第二气液分离装置（600）包括壳体（610）和设于所述壳体（610）内的阻尼片（620），所述阻尼片（620）用于冷却进入所述壳体（610）内的气体，所述壳体（610）设有所述第二入口（630）和所述第二出口。 5.根据权利要求4所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述阻尼片（620）为多个，多个所述阻尼片（620）均为折弯片，多个所述阻尼片（620）间隔设于所述壳体（610）内。 6.根据权利要求5所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述折弯片包括多个依次衔接、且相交的折弯段，相邻的两个所述折弯段的折弯方向相反。 7.根据权利要求4所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述壳体（610）设有冷却水注入口（612），所述冷却水注入口（612）与所述壳体（610）的壳体内腔（611）连通，所述半导体工艺设备还包括温度传感器（700）和冷却水输入控制器（800），所述冷却水输入控制器（800）与所述温度传感器（700）相连，所述冷却水输入控制器（800）在所述温度传感器（700）检测的温度超过预设阈值的情况下，用于通过所述冷却水注入口（612）向所述壳体内腔（611）中通入冷却水。 8.根据权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述半导体工艺设备还包括过滤装置（900），所述过滤装置（900）的装置入口与所述第二出口连通，所述过滤装置（900）的装置出口与所述氧含量分析仪（500）连通。 9.根据权利要求8所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述过滤装置（900）包括串联的第一过滤器（910）和第二过滤器（920），所述第一过滤器（910）与所述第二出口连通，所述第二过滤器（920）与所述氧含量分析仪（500）连通，所述第二过滤器（920）的过滤孔直径小于所述第一过滤器（910）的过滤孔直径。 10.根据权利要求8所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述氧含量分析仪（500）位于所述过滤装置（900）的上方，所述过滤装置（900）位于所述第二气液分离装置（600）的上方。