专利名称: |
一种辅助调节装置及光学检测设备 |
摘要: |
本实用新型涉及一种辅助调节装置及光学检测设备,其包括:支撑体,所述支撑体设置有基准平面,且所述支撑体设有半透半反镜;以及透射标定点和反射标定点,所述透射标定点和所述反射标定点均固设于所述支撑体,且所述透射标定点和所述反射标定点分布于所述半透半反镜的相反两侧;所述透射标定点和所述反射标定点配置为当光线垂直所述基准平面入射至所述半透半反镜且部分光线透射至对准所述透射标定点时,所述光线部分反射至对准所述反射标定点。本实用新型涉及的一种辅助调节装置及光学检测设备,通过简单的结构就可以测出光机模组是否存在倾角,且不需用到特别昂贵的材料和加工方法,制作成本和难度较低。 |
专利类型: |
实用新型 |
申请人: |
武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司 |
发明人: |
韦晨;王进文;邓俊涛;张虎;欧昌东 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2023-05-23T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2023-11-03T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202321258414.5 |
公开号: |
CN219957320U |
代理机构: |
武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) |
代理人: |
张凯 |
分类号: |
G01N21/01;G01N21/84;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01;G01N21/84 |
申请人地址: |
430205 湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路22号; |
主权项: |
1.一种辅助调节装置,其特征在于,其包括: 支撑体(1),所述支撑体(1)设置有基准平面(11),且所述支撑体(1)设有半透半反镜(2); 以及透射标定点(3)和反射标定点(4),所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)均固设于所述支撑体(1),且所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分布于所述半透半反镜(2)的相反两侧; 所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)配置为当光线垂直所述基准平面(11)入射至所述半透半反镜(2)且部分光线透射至对准所述透射标定点(3)时,所述光线部分反射至对准所述反射标定点(4)。 2.如权利要求1所述的辅助调节装置,其特征在于:所述半透半反镜(2)相对于所述基准平面(11)倾斜布置。 3.如权利要求1所述的辅助调节装置,其特征在于: 所述支撑体(1)上设置有标定板(5),所述标定板(5)设置有两个标定面,两个所述标定面分别设置于所述半透半反镜(2)的相反两侧,所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分别位于两个所述标定面上。 4.如权利要求1所述的辅助调节装置,其特征在于: 所述支撑体(1)上设置有两个标定板(5),两个标定板(5)分别位于所述半透半反镜(2)的相反两侧,所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分别位于两个所述标定板(5)上。 5.如权利要求4所述的辅助调节装置,其特征在于: 至少一个所述标定板(5)上还设置有多个标定偏移点,多个所述标定偏移点分别对应朝向不同方向倾斜的入射光线,且该标定板(5)上设置所述反射标定点(4)。 6.如权利要求3或4所述的辅助调节装置,其特征在于:所述标定板(5)的材质为玻璃、石英、陶瓷、哑光铝板或者菲林。 7.如权利要求1所述的辅助调节装置,其特征在于: 所述支撑体(1)内设有空腔,所述半透半反镜(2)和所述透射标定点(3)、所述反射标定点(4)均设置于所述空腔内; 所述支撑体(1)于所述空腔的一侧设有光线入射窗口,且所述光线入射窗口中安装有透明玻璃(6)。 8.如权利要求7所述的辅助调节装置,其特征在于: 所述辅助调节装置还包括透镜,所述透镜安装于所述透明玻璃(6),且所述透镜的中心与所述透射标定点(3)的连线垂直于所述基准平面(11)。 9.如权利要求1所述的辅助调节装置,其特征在于:所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)处均设置有光敏传感器。 10.一种光学检测设备,其特征在于,其包括: 载物平台,所述载物平台用于承载被测物;所述载物平台上设置有如权利要求1-9任一项所述的辅助调节装置。 |