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原文传递一种硅片吸附机构、换向机构及收片装置

专利名称：	一种硅片吸附机构、换向机构及收片装置
摘要：	本实用新型公开了一种硅片吸附机构、换向机构及收片装置，硅片吸附机构包括至少两条平行设置的输送带以及至少两个与输送带一一对应的吸附单元，吸附单元沿输送带的输送方向延伸设置，每个吸附单元均包括基座和导流件，基座靠近对应的输送带安装且至少用于支撑输送带的输送面；导流件安装在基座上，导流件和基座之间形成有气腔，导流件和基座之间形成有与所述气腔联通的气流引导部，导流件上设置有供气口，压缩气体经供气口进入气腔，再经气腔从气流引导部流出以基于伯努利效应产生的负压将硅片非接触地保持在输送带的输送面上。上述硅片吸附机构的吸附单元的吸附力沿输送带的输送方向分布，吸附时不容易造成硅片变形。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	江苏;32
申请人：	无锡奥特维科技股份有限公司
发明人：	闫东;李昶;王美;卞海峰;薛冬冬;顾晓奕;徐飞;肖文龙;李泽通;韩杰;韩文韬
专利状态：	有效
申请日期：	2023-04-21T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-17T00:00:00+0800
申请号：	CN202320904966.2
公开号：	CN220033030U
代理机构：	无锡三合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	徐鹏飞;赵庆华
分类号：	B65G15/58;B65G41/00;B65G47/24;B65B35/12;B65B35/24;B;B65;B65G;B65B;B65G15;B65G41;B65G47;B65B35;B65G15/58;B65G41/00;B65G47/24;B65B35/12;B65B35/24
申请人地址：	214000 江苏省无锡市新吴区新华路3号
主权项：	1.一种硅片吸附机构，其特征在于，所述硅片吸附机构包括至少两条平行设置的输送带以及至少两个与所述输送带一一对应的吸附单元，所述吸附单元沿所述输送带的输送方向延伸设置，其中：每个所述吸附单元均包括基座和导流件，所述基座靠近对应的输送带安装且至少用于支撑所述输送带的输送面；所述导流件安装在所述基座上，所述导流件和所述基座之间形成有气腔，所述导流件和所述基座之间形成有与所述气腔联通的气流引导部，所述导流件上设置有供气口，压缩气体经所述供气口进入所述气腔，再经所述气腔从所述气流引导部流出以基于伯努利效应产生的负压将硅片非接触地保持在所述输送带的输送面上。 2.根据权利要求1所述的硅片吸附机构，其特征在于，所述基座包括安装部和凸起部，所述安装部用于支撑对应的输送带；所述凸起部凸出于所述安装部设置，所述凸起部位于所述输送带侧边且与所述输送带所输送的硅片之间形成间隙。 3.根据权利要求1所述的硅片吸附机构，其特征在于，所述导流件和所述基座之间具有多个相互独立的气腔，所述导流件上设置有与所述气腔一一对应的供气口，所述导流件和所述基座之间具有与所述气腔一一对应的气流引导部。 4.根据权利要求3所述的硅片吸附机构，其特征在于，所述基座和所述导流件一体成型，且在每个所述气腔的外围一体成型有具有开口的凸台，所述开口朝向气流的流出方向，所述凸台用于在所述基座和导流件之间形成所述气流引导部。 5.根据权利要求3所述的硅片吸附机构，其特征在于，每个所述吸附单元还包括具有开口的垫片，所述具有开口的垫片设置在所述气腔的外围，且所述开口朝向气流的流出方向，所述垫片用于在所述基座和导流件之间形成所述气流引导部。 6.根据权利要求5所述的硅片吸附机构，其特征在于，所述垫片为整体式垫片，所述整体式垫片具有与所述气腔的数量一致的开口；或者，所述垫片为分体式垫片，所述分体式垫片的数量与所述气腔的数量一致。 7.根据权利要求1所述的硅片吸附机构，其特征在于，所述导流件和所述基座之间的两侧分别形成有第一气流引导部和第二气流引导部，所述第一气流引导部的气流流出方向和所述第二气流引导部的气流流出方向相反。 8.一种硅片换向机构，其特征在于，所述硅片换向机构包括转运机构、第一输送机构和第二输送机构，所述转运机构、所述第一输送机构和所述第二输送机构均包括如权利要求1-7任意一项所述的硅片吸附机构，其中：所述第一输送机构和所述第二输送机构分别设置在所述转运机构的两侧，所述转运机构用于将位于所述转运机构下方的硅片非接触地保持在所述转运机构上，并将所述硅片传送给所述第一输送机构或所述第二输送机构。 9.一种硅片收片装置，其特征在于，所述硅片收片装置包括主输送机构、至少一个如权利要求8所述的硅片换向机构和料盒机构，其中：所述主输送机构沿第一方向设置，用于沿所述第一方向将硅片输送至所述硅片换向机构的下方；所述硅片换向机构沿第二方向设置在所述主输送机构的上方，所述第二方向垂直于所述第一方向；所述转运机构位于所述主输送机构的正上方，用于将所述主输送机构输送的硅片非接触地保持在所述转运机构上，并将所述硅片传送给所述第一输送机构或所述第二输送机构；所述料盒机构设置在所述第一输送机构和所述第二输送机构的下方，用于承接由所述第一输送机构或所述第二输送机构释放的硅片。 10.根据权利要求9所述的硅片收片装置，其特征在于，所述转运机构包括三条平行设置的输送带和三个与所述输送带一一对应的吸附单元，三个所述吸附单元分别沿三条输送带的输送方向延伸设置，其中至少有两个吸附单元的气流流出方向与所述主输送机构的输送方向相反。 11.根据权利要求9所述的硅片收片装置，其特征在于，所述转运机构包括两条平行设置的输送带和四个吸附单元，其中两个吸附单元靠近其中一条输送带安装，且沿所述输送带的输送方向延伸设置；另外两个吸附单元靠近另外一条输送带安装，且沿所述输送带的输送方向延伸设置，四个吸附单元中至少有两个吸附单元的气流流出方向与所述主输送机构的输送方向相反。 12.根据权利要求9所述的硅片收片装置，其特征在于，所述第一输送机构和所述第二输送机构分别具有至少两个释放位置，每个所述释放位置的下方均设置有料盒机构。
所属类别：	实用新型