专利名称: | 移栽容器的遮蔽式入出气结构 |
摘要: | 本发明是有关一种移载容器的遮蔽式入出气结构,该移载容器,包含相 对盖合的一底座与一壳罩,底座顶面设有一由两承托件与一抵持件组成的 门型支撑体,以支撑光置;该入出气结构,在底座上设有至少两个可选择性 产生气密作用的入出气元件,设于中空承件件范围内,使移载容器置在对应 装置时,可通过设于装置上的对应启闭元件选择性开启移载容器的两入出 气元件,而对密合移转容器内部注入干净气体,并将移转容器内部气体导 出,使气体可在移转容器内部形成进、出循环流动状态,能长时间维持移转 容器内部环境洁净度,同时由于入出气结构是设置于承托件下方,可避免气 流直接冲击光掩膜表面,不致发生伤害光掩膜表面的现象,而可以提升洁净 度,并且能避免伤害光掩膜。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 台湾;TW |
申请人: | 亿尚精密工业股份有限公司 |
发明人: | 陈俐殷;卢诗文;蔡铭贵 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2008-06-16T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200810125203.8 |
公开号: | CN101609260 |
代理机构: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人: | 寿 宁;张华辉 |
分类号: | G03F7/20(2006.01)I |
申请人地址: | 中国台湾高雄县 |
主权项: | 1、一种移载容器的遮蔽式入出气结构,该移载容器是用于容置一光掩 膜,其特征在于其包含有: 一底座,其顶面设有由两承托件与一抵持件围绕形成的支撑体,供支撑 光掩膜及光掩膜侧边贴靠,其中承托件底面形成有一中空的回气空间,两承 托件相异的外侧分别形成有复数连通内部与外部的通气孔; 一壳罩,其供选择性相对前述底座盖合与开启,该壳罩可盖合于底座上 形成一容置光掩膜的容置空间; 至少两入出气元件,其设置于前述底座上,该两入出气元件并设置于底 座两承托件的下方,且与承托件回气空间相连通; 藉此,当移载容器置于一装置时,可通过装置上相对入出气元件的启 闭元件,选择性同时开启入出气元件,令气体可注入与排出移载容器,而利 用两入出气元件可使气体经由回气空间注入或排出移载容器的设计,使得 气流可沿光掩膜上、下表面水平流动,而组构成一气流不致损及光掩膜图 形、且可长时间保持洁净度的移载容器的遮蔽式入出气结构。 |
所属类别: | 发明专利 |