专利名称: | 一种测定多晶硅中硼、磷含量的方法 |
摘要: | 本发明公开了一种测定多晶硅中硼、磷含量的方法,该方法为:在氩气 气氛中将多晶硅拉制成单晶硅;测量单晶硅预设位置的电阻率和P/N类型; 将单晶硅中硼、磷之间的差量公式与单晶硅预设位置的分凝系数公式结合起 来,以单晶硅中硼含量和磷含量作为未知数,建立二元一次方程组;依据二 元一次方程组,得到多晶硅中硼的含量和磷的含量。与现有技术相比,本发 明在测得单晶硅预设位置的电阻率和P/N类型后,即可根据所测的电阻率、 P/N类型和已有的公式计算出单晶硅中硼、磷的含量,即多晶硅中硼、磷的含 量,由于本发明在测得数据后采用公式计算,因此节约大量的时间;另外, 无需用到低温傅里叶变换红外光谱仪或低温傅里叶变换光致发光仪,因此节 省成本。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 重庆;85 |
申请人: | 重庆大全新能源有限公司 |
发明人: | 张瑞云;迈克·杰尼根 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-06-15T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200910145826.6 |
公开号: | CN101571502 |
代理机构: | 北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人: | 逯长明 |
分类号: | G01N27/04(2006.01)I |
申请人地址: | 404000重庆市万州区龙都大道666号 |
主权项: | 1、一种测定多晶硅中硼、磷含量的方法,其特征在于,包括: 在氩气气氛中将多晶硅拉制成单晶硅; 测量单晶硅预设位置的电阻率和P/N类型; 将单晶硅中硼、磷之间的差量公式与单晶硅预设位置的分凝系数公式结 合起来,以单晶硅中硼含量和磷含量作为未知数,建立二元一次方程组; 依据所述二元一次方程组得到多晶硅中硼的含量和磷的含量。 |
所属类别: | 发明专利 |