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用于痕量探测仪的样品处理系统及方法
| 专利名称： | 用于痕量探测仪的样品处理系统及方法 |
| 摘要： | 一种用于痕量探测仪的样品处理方法及系统，包括：采样载体，用 于通过擦拭待检物体表面而将其表面附着的物质采集到采样载体的表面 上；以及痕量探测仪，其进样装置中设有进样件，通过先将采样载体表 面上所采集的物质转移到该进样件的表面上，再对转移到进样件的表面 上的物质进行检测。本发明中，通过用化学纤维材料制成的采样载体擦 拭待测物品表面，将采样载体所采集到的样品通过机械方式转移到进样 装置的金属膜或细网，再通过加热使样品气化，送入痕量检测仪进行分 析。由此可以提高样品采集和热脱附效率，同时避免对采样材料直接进 行加热处理，减少本底干扰。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 同方威视技术股份有限公司 |
| 发明人： | 陈志强;李元景;彭 华;贺 文;李 徽;张仲夏 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-05-21T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200810112209.1 |
| 公开号： | CN101587029 |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 |
| 代理人： | 张成新 |
| 分类号： | G01N1/02(2006.01)I |
| 申请人地址： | 100084北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 |
| 主权项： | 1、一种样品处理系统，包括： 采样载体，用于通过擦拭待检物体表面而将其表面附着的物质采集 到采样载体的表面上；以及 痕量探测仪，所述痕量探测仪具有进样装置，该进样装置中设有进 样件，通过将采样载体的表面所采集的物质转移到该进样件的表面上， 再对转移到进样件的表面上的物质进行检测。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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