专利名称: |
用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统 |
摘要: |
本实施例公开了一种用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,包括:消解罐,包括:罐体和盖设于罐体上的盖体,罐体与盖体密封连接,罐体用于盛放待处理的氯硅烷样品,盖体上开设有第一开口、第二开口;第一管道,第一管道与第一开口密封连接,第一管道的第一端穿过第一开口且位于罐体内,第一管道用于向消解罐内通入载气;第二管道,第二管道与第二开口密封连接,第二管道的第一端穿过第二开口且位于罐体内,第二管道用于输出负载有氯硅烷的载气;加热装置,其上设置有加热区,加热区用于容纳消解罐并对其进行加热。该前处理系统避免了待处理的氯硅烷样品受到二次污染,且通过载气的携带蒸发出来的氯硅烷,可减少蒸发氯硅烷的时间,提高工作效率。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
新疆;65 |
申请人: |
新疆新特新能材料检测中心有限公司 |
发明人: |
罗建文;邱艳梅;刘国霞;曾凤;罗丹;陈星;唐华华 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-12T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-26T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201822083005.1 |
公开号: |
CN209690000U |
代理机构: |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 |
代理人: |
罗建民;张萍 |
分类号: |
G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
申请人地址: |
831500 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市甘泉堡经济技术开发区(工业园)面广东街2499号 |
主权项: |
1.一种用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,包括: 消解罐,包括:罐体和盖设于罐体上的盖体,罐体与盖体密封连接,罐体用于盛放待处理的氯硅烷样品,盖体上开设有第一开口、第二开口; 第一管道,第一管道与第一开口密封连接,第一管道的第一端穿过第一开口且位于罐体内,第一管道用于向消解罐内通入载气; 第二管道,第二管道与第二开口密封连接,第二管道的第一端穿过第二开口且位于罐体内,第二管道用于输出负载有氯硅烷的载气; 加热装置,其上设置有加热区,加热区用于容纳消解罐并对其进行加热。 2.根据权利要求1所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,盖体与罐体的连接方式为卡接、螺纹连接、过盈连接中的任意一种。 3.根据权利要求1所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,第一管道的第一端距离罐体内待处理的氯硅烷样品的液面高度h1,低于第二管道的第一端距离罐体内待处理的氯硅烷样品的液面高度h2。 4.根据权利要求1~3任意一项所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,还包括: 载气供应装置,与第一管道连接,载气供应装置用于通过第一管道向消解罐内供应载气。 5.根据权利要求4所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,第一管道上设置有第一阀门,第一阀门为微量调节阀。 6.根据权利要求1~3、5任意一项所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,还包括: 吸收容器,与第二管道的第二端连接,吸收容器用于盛放吸收载气中的氯硅烷的吸收液。 7.根据权利要求1~3、5任意一项所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,加热装置为无水加热装置。 8.根据权利要求7所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,加热装置为石墨消解仪。 9.根据权利要求1~3、5任意一项所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,消解罐的材质为PFA、PTFE中的一种。 10.根据权利要求1~3、5任意一项所述的用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统,其特征在于,至少第一管道伸入罐体内的管体的材质为PFA、PTFE中的一种;至少第二管道伸入罐体内的管体的材质为PFA、PTFE中的一种。 |
所属类别: |
实用新型 |