专利名称: |
一种氯硅烷前处理方法 |
摘要: |
本发明公开了一种氯硅烷前处理方法,包括如下步骤:S1将多晶硅生产工艺中精馏后的溶液进行样品液的提取;S2将样品液转移到离心管中;S3将离心管放置到离心机中;S4启动离心机进行离心;S5取离心后的离心管的上层清液;S6取上层清液用色谱仪进行分析。本发明的氯硅烷前处理方法减免了气相色谱仪器进样针、进样系统和分离系统的备件消耗,节约成本。通过此技术可以有效的提供生产分析数据,有效指导生产对脏物料成分含量有明确的判定依据。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
内蒙古;15 |
申请人: |
内蒙古通威高纯晶硅有限公司 |
发明人: |
曾一文;甘居富;游书华;彭中;王亚萍 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-01-31T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910098826.9 |
公开号: |
CN109781888A |
代理机构: |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人: |
王学强;罗满 |
分类号: |
G01N30/02(2006.01);G;G01;G01N;G01N30 |
申请人地址: |
014000 内蒙古自治区包头市昆都仑区金属深加工园区荣华大街1号 |
主权项: |
1.一种氯硅烷前处理方法,其特征在于:包括如下步骤: S1将多晶硅生产工艺中精馏后的溶液进行样品液的提取; S2将样品液转移到离心管中; S3将离心管放置到离心机中; S4启动离心机进行离心; S5取离心后的离心管的上层清液; S6取上层清液用色谱仪进行分析。 2.根据权利要求1所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:S1步骤后S2步骤前,将样品液降温处理。 3.根据权利要求2所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:S5步骤后S6步骤前,将上层清液置放到室温。 4.根据权利要求1所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:所述离心机的转速为10000r/min。 5.根据权利要求1所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:所述S6步骤中的进样量为5uL。 6.根据权利要求1所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:所述S6步骤中的色谱仪为气相色谱仪。 7.根据权利要求6所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:所述气相色谱仪的流速为60mL/min。 8.根据权利要求7所述的氯硅烷前处理方法,其特征在于:所述气相色谱仪的汽化室温度为110-140℃。 |
所属类别: |
发明专利 |