专利名称: | 用于硅样品痕量杂质元素分析的消解杯具 |
摘要: | 本实用新型涉及一种用于硅样品痕量杂质元素分析的消解杯具,包括消解杯体和消解杯盖,特征是:所述消解杯盖包括盖顶和盖沿,所述盖沿的内壁为光滑表面,在消解杯盖的盖顶设有出气口和圆柱状的进样口,在出气口上设有泄压盖,泄压盖的面积大于出气口的面积。在所述消解杯体的外围罩有消解杯罩。所述消解杯罩为顶部封闭的直筒状。本实用新型的优点:1、针管可从圆柱形出口处吸取额定的酸量,用针管滴样放缓化学反应的速度,进而保证消解样品时温度不会急剧增高,减少随二氧化氮流失的硼元素;2、杯盖上的翻盖可延长消解杯的使用寿命,且保证外界环境不会污染样品;3、消解杯罩可以加快挥硅的速度、减少环境污染。 |
专利类型: | 实用新型专利 |
国家地区组织代码: | 江苏;32 |
申请人: | 无锡中彩科技有限公司 |
发明人: | 周大荣 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2010-06-24T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201020236548.3 |
公开号: | CN201749046U |
代理机构: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 |
代理人: | 曹祖良 |
分类号: | G01N1/28(2006.01)I |
申请人地址: | 214183 江苏省无锡市惠山区玉祁镇工业集中区 |
主权项: | 一种用于硅样品痕量杂质元素分析的消解杯具,包括消解杯体(1)和消解杯盖(2),其特征是:所述消解杯盖(2)包括盖顶和盖沿,所述盖沿的内壁为光滑表面,在消解杯盖(2)的盖顶设有出气口(4)和圆柱状的进样口(6),在出气口(4)上设有泄压盖(5),泄压盖(5)的面积大于出气口的面积。 |
所属类别: | 实用新型 |