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原文传递 一种评估Ⅲ族氮化物单晶表面位错的检测方法
专利名称: 一种评估Ⅲ族氮化物单晶表面位错的检测方法
摘要: 本发明公开了一种通过原子力显微镜精确定位测定III族氮化物单晶表面位 错类型并统计不同类型位错密度的检测方法,属于半导体材料质检领域。其目 的是通过标记检测区域,利用原子力显微镜对标记区域表面形貌进行测试,然 后将样品进行多次腐蚀,并在每次腐蚀后用原子力显微镜对标记的同一检测区 域进行重复测试,多次腐蚀和测试后统计得到每个腐蚀位错坑的腐蚀速率,判 定对应的位错类型,进而统计各类型位错的密度。本发明突破传统透射电子显 微镜的位错检测方法,制样方法简单,位错类型判定准确高效,不仅可用于工 业上各类半导体材料的质量检测,促进III族氮化物基光电器件在光电产业的发 展,也能应用于关于薄膜材料位错腐蚀动力学的科学研究。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 江苏;32
申请人: 苏州纳米技术与纳米仿生研究所
发明人: 刘争晖;钟海舰;徐 科;王明月
专利状态: 有效
申请日期: 2009-03-05T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200910025456.2
公开号: CN101598655
代理机构: 南京苏科专利代理有限责任公司
代理人: 陈忠辉
分类号: G01N13/16(2006.01)I
申请人地址: 215125江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
主权项: 1.一种评估III族氮化物单晶表面位错的检测方法,其特征步骤包括: (1)、在III族氮化物单晶的待检样品表面上标记出检测区域; (2)、利用原子力显微镜定位腐蚀前样品的检测区域,扫描样品表面形貌; (3)、利用酸性或碱性的腐蚀性溶液对待检样品进行湿法腐蚀; (4)、用去离子水及有机溶剂清洗去除待检样品表面的腐蚀性溶液; (5)、利用原子力显微镜定位步骤(1)所述的检测区域,扫描样品并记录扫描 范围内所有位错的数量及每个位错坑的横向面积和纵向深度参数; (6)、至少两次重复步骤(3)~步骤(5),对待检样品进行定时腐蚀和表面形貌 扫描,统计并记录每次扫描各位错坑的参数变化结果; (7)、对多次记录的位错坑参数结果进行统计分析,分别得出每个位错坑横 向和纵向的腐蚀速率,根据腐蚀速率判定各位错对应的类型,并对所 有位错进行按类型划分的数量统计。
所属类别: 发明专利
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