专利名称: |
一种评估Ⅲ族氮化物单晶表面位错的检测方法 |
摘要: |
本发明公开了一种通过原子力显微镜精确定位测定III族氮化物单晶表面位
错类型并统计不同类型位错密度的检测方法,属于半导体材料质检领域。其目
的是通过标记检测区域,利用原子力显微镜对标记区域表面形貌进行测试,然
后将样品进行多次腐蚀,并在每次腐蚀后用原子力显微镜对标记的同一检测区
域进行重复测试,多次腐蚀和测试后统计得到每个腐蚀位错坑的腐蚀速率,判
定对应的位错类型,进而统计各类型位错的密度。本发明突破传统透射电子显
微镜的位错检测方法,制样方法简单,位错类型判定准确高效,不仅可用于工
业上各类半导体材料的质量检测,促进III族氮化物基光电器件在光电产业的发
展,也能应用于关于薄膜材料位错腐蚀动力学的科学研究。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江苏;32 |
申请人: |
苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人: |
刘争晖;钟海舰;徐 科;王明月 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2009-03-05T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200910025456.2 |
公开号: |
CN101598655 |
代理机构: |
南京苏科专利代理有限责任公司 |
代理人: |
陈忠辉 |
分类号: |
G01N13/16(2006.01)I |
申请人地址: |
215125江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 |
主权项: |
1.一种评估III族氮化物单晶表面位错的检测方法,其特征步骤包括:
(1)、在III族氮化物单晶的待检样品表面上标记出检测区域;
(2)、利用原子力显微镜定位腐蚀前样品的检测区域,扫描样品表面形貌;
(3)、利用酸性或碱性的腐蚀性溶液对待检样品进行湿法腐蚀;
(4)、用去离子水及有机溶剂清洗去除待检样品表面的腐蚀性溶液;
(5)、利用原子力显微镜定位步骤(1)所述的检测区域,扫描样品并记录扫描
范围内所有位错的数量及每个位错坑的横向面积和纵向深度参数;
(6)、至少两次重复步骤(3)~步骤(5),对待检样品进行定时腐蚀和表面形貌
扫描,统计并记录每次扫描各位错坑的参数变化结果;
(7)、对多次记录的位错坑参数结果进行统计分析,分别得出每个位错坑横
向和纵向的腐蚀速率,根据腐蚀速率判定各位错对应的类型,并对所
有位错进行按类型划分的数量统计。 |
所属类别: |
发明专利 |