专利名称: |
一种碳化硅位错检测方法 |
摘要: |
本发明涉及单晶材料位错检测技术领域,公开了碳化硅位错检测方法。本发明提供一种碳化硅位错检测方法,包括如下步骤:S1,设置晶圆;S2,使用带有刻蚀气体的等离子体火炬扫描晶圆表面,对晶圆表面进行刻蚀;S3,对晶圆进行冷却处理;S4,观察晶圆表面刻蚀坑的数目,从而计算得到晶圆的位错密度。本发明的碳化硅位错检测方法,可以方便、快速地得到碳化硅表面刻蚀坑的数目信息,耗时短、危害性小、便于流水线工作。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
南方科技大学 |
发明人: |
邓辉;张翊 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811120149.8 |
公开号: |
CN109270065A |
代理机构: |
广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 |
代理人: |
唐致明 |
分类号: |
G01N21/84(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
518055 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 |
主权项: |
1.一种碳化硅位错检测方法,其特征在于,包括如下步骤:S1,设置晶圆;S2,使用带有刻蚀气体的等离子体火炬扫描晶圆表面,对晶圆表面进行刻蚀;S3,对晶圆进行冷却处理;S4,观察晶圆表面刻蚀坑的数目,从而计算得到晶圆的位错密度。 |
所属类别: |
发明专利 |