专利名称: | 气体敏感结构和包括其的部件 |
摘要: | 一种被配置成监测一种或多种气态分析物的系统(10)的部件。在一个实施例中,该部件包括导管(14)和气体敏感膜(20)。形成所述导管(14)以实现通过其的气体流。气体敏感膜(20)被设置成与所述气体流连通,并对所述气体流之内的一种或多种气态分析物敏感。膜(20)包括发光染料和聚合物基质。该染料对所述一种或多种气态分析物敏感。该聚合物基质承载所述染料,是多孔的,且被形成为使得所述膜具有(i)所述一种或多种气态分析物的浓度至少从大约20%到大约90%的动态范围以及(ii)至少在所述动态范围的一部分上的小于大约80毫秒的响应时间。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人: | C·米勒 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-04-02T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200980112263.9 |
公开号: | CN101990635A |
代理机构: | 永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人: | 王英;刘炳胜 |
分类号: | G01N21/77(2006.01)I |
申请人地址: | 荷兰艾恩德霍芬 |
主权项: | 一种被配置成监测一种或多种气态分析物的系统的部件,所述部件包括:(a)导管,形成所述导管以实现通过其的气体流;(b)设置成与所述气体流连通的气体敏感膜,所述膜对所述气体流之内的一种或多种气态分析物敏感,所述膜包括:(1)对所述一种或多种气态分析物敏感的染料;以及(2)承载所述染料的聚合物基质,其中,所述聚合物基质是多孔的,并且形成所述聚合物基质,使得所述膜具有(i)所述一种或多种气态分析物的浓度至少从大约20%到大约90%的动态范围以及(ii)至少在所述动态范围的一部分上的小于大约80毫秒的响应时间。 |
所属类别: | 发明专利 |