专利名称: | 遮挡逆光装置 |
摘要: | 本发明提供一种遮挡逆光装置,其设置于被一光源照射的一物体中,上述遮挡逆光装置包括:一光电组件,覆盖于上述物体的一表面;一光感测组件,设置上述物体的一第一固定点上;以及一控制器,电性耦接至上述光电组件和上述光感测组件,其中上述控制器根据上述光感测组件直接接收上述光源发射光线的一感光位置以计算出上述光电组件的一对应感光位置,以降低上述光电组件对应感光位置的透明度而产生一遮光区域,以遮挡上述光源发射穿过上述遮光区域至上述物体的一第二固定点的光线。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 台湾;71 |
申请人: | 财团法人工业技术研究院 |
发明人: | 吴奕莹;吴泰昌 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2010-05-11T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201010178008.9 |
公开号: | CN102241235A |
代理机构: | 北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人: | 陈小雯 |
分类号: | B60J3/04(2006.01)I |
申请人地址: | 中国台湾新竹县 |
主权项: | 一种遮挡逆光装置,其设置于被一光源照射的一物体中,包括:一光电组件,覆盖于该物体的一表面;一光感测组件,设置该物体的一第一固定点上;以及一控制器,电性耦接至该光电组件和该光感测组件,其中该控制器根据该光感测组件直接接收该光源发射一光线的一感光位置以计算出该光电组件的一对应感光位置,以降低该对应感光位置的透明度而产生一遮光区域,以遮挡该光源发射穿过该遮光区域至该物体的一第二固定点的光线。 |
所属类别: | 发明专利 |