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原文传递 一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法
专利名称: 一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法
摘要: 一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法,属于高温超导涂层导体的基带领域。将总形变量>99%、平均厚度为80~120um的冷轧合金基带剪切制备ND-RD面的样品或/和TD-RD面的样品6-10个,并叠放在一起并用夹具固定,留在夹具外边的一面高度应保持一致且整齐,面依次经过200#、400#、600#、800#、1500#的水磨砂纸抛磨后,再用金刚砂抛磨膏进行机械抛光,在进行下一道型号砂纸抛磨之前,必须进行5min~10min的超声清洗;取出,分别用丙酮、乙醇、水清洗。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 北京;11
申请人: 北京工业大学
发明人: 索红莉;王营霞;马麟;刘敏;王毅;田辉;王金华;袁冬梅
专利状态: 有效
申请日期: 2011-12-15T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201110421624.7
公开号: CN102519777A
代理机构: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203
代理人: 沈波
分类号: G01N1/32(2006.01)I
申请人地址: 100124 北京市朝阳区平乐园100号
主权项: 一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将总形变量>99%、平均厚度为80~120um的冷轧合金基带根据测试需要分别剪切制备ND?RD面的样品或/和TD?RD面的样品,并做好标记;2)将剪切好的样品按照长度方向整齐的叠放在一起,其数量为6~10个;3)把步骤2)叠放整齐的样品用夹具固定在一起,固定时应注意基带不能倾斜,其留在夹具外边的一面高度应保持一致且整齐;4)将固定在夹具上的样品进行机械抛光,对样品留在夹具外边、高度保持一致且整齐的一面依次经过200#、400#、
所属类别: 发明专利
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