原文传递
高效外延化学气相沉积（CVD）反应器
| 专利名称： | 高效外延化学气相沉积（CVD）反应器 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学气相沉积反应器，其具有改善的化合物利用率和成本效益。本公开的晶片基座可以以堆叠结构用于同时加工多个晶片。本公开的反应器可为逆流耗尽型反应器，其具有均一的膜厚度以及高的化合物利用率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 速力斯公司 |
| 发明人： | 乔治·卡米安 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-04-14T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201080021690.9 |
| 公开号： | CN102427971A |
| 代理机构： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 |
| 代理人： | 谭志强 |
| 分类号： | B60R25/02(2006.01)I |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 一种用于将化合物沉积于晶片上的反应器，所述反应器包括：????第一端口；????连接到所述第一端口的第一挡板通道；????用于将所述晶片第一表面暴露于所述化合物的晶片插袋，所述晶片插袋连接到所述第一挡板通道；????连接到所述晶片插袋的第二挡板通道；以及????第二端口；????其中所述第一端口能够以供给模式或排气模式操作。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
