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一种含多孔二氧化硅磨料的抛光液及其制备方法
| 专利名称： | 一种含多孔二氧化硅磨料的抛光液及其制备方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种多孔二氧化硅颗粒以及含有所述多孔二氧化硅颗粒的化学机械抛光液，所述多孔二氧化硅颗粒通过如下方法制备获得：采用聚乙烯吡咯烷酮作为保护剂吸附于二氧化硅实心球颗粒表面，再利用氢氧化钠刻蚀形成表面具有多孔结构的多孔二氧化硅颗粒。本发明采用表面保护和刻蚀的方法制备获得的多孔二氧化硅可用于抛光液的磨料，所采用的表面保护剂为抛光液中所需要的成分或不影响抛光性能的成分，该方法不需要经过高温过程，保持了二氧化硅溶胶良好的分散性和稳定性，抛光液中的化学成分可有效地吸附在二氧化硅表面，增强磨料的化学活性，提高抛光效率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 刘卫丽;雷博;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2014-12-25T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201410838043.7 |
| 公开号： | CN104559927A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 郭婧婧;许亦琳 |
| 分类号： | C09K3/14(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
| 主权项： | 一种制备多孔二氧化硅颗粒的方法，所述方法为采用聚乙烯吡咯烷酮作为保护剂吸附于二氧化硅实心球颗粒表面，再利用氢氧化钠刻蚀形成表面具有多孔结构的多孔二氧化硅颗粒。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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