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一种含复合磨料的化学机械抛光液
| 专利名称： | 一种含复合磨料的化学机械抛光液 |
| 摘要： | 本发明涉及化学抛光领域，具体涉及一种含复合磨料的化学机械抛光液及其制备方法。所述化学机械抛光液，含有复合磨料，所述复合磨料由二氧化硅和三氧化二铝组成。所述复合磨料中，二氧化硅和三氧化二铝的重量比为0.1:1~3:1。本发明利用二氧化硅的化学活性和三氧化二铝的硬度之间的协同作用，可有效地提高蓝宝石的抛光效率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2014-12-31T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201410852457.5 |
| 公开号： | CN104559799A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 郭婧婧;许亦琳 |
| 分类号： | C09G1/02(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
| 主权项： | 一种化学机械抛光液，含有复合磨料，所述复合磨料由二氧化硅和三氧化二铝组成。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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