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原文传递一种化学机械抛光液

专利名称：	一种化学机械抛光液
摘要：	一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：氧化物抛光颗粒5~50wt%，氧化剂0.1~2wt%，螯合剂0.01~2wt%，络合剂0.01~2wt%，表面活性剂0.01~2wt%，余量为pH调节剂和水。采用本发明中公开的化学机械抛光液能够达到高的金属移除效率；高的金属表面质量，无明显橘皮、腐蚀坑和划伤等缺陷。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人：	刘卫丽;宋志棠
专利状态：	有效
申请日期：	2014-12-31T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201410852464.5
公开号：	CN104592896A
代理机构：	上海光华专利事务所 31219
代理人：	梁海莲
分类号：	C09G1/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢
主权项：	一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：
所属类别：	发明专利