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原文传递一种GST中性化学机械抛光液

专利名称：	一种GST中性化学机械抛光液
摘要：	本发明涉及化学机械抛光液领域，尤其涉及一种可有效应用于相变材料GST的化学机械抛光液。本发明提供一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒0.2-30wt%；氧化剂0.01-5wt%；表面活性剂0.01-4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6-8。本发明提供的用于相变材料GST的中性化学机械抛光液，所述的经过烷基改性，金属氧化物包裹，胺型改性，无机离子改性等方法改性的SiO2抛光颗粒，在pH值6-8范围内，zeta电位的绝对值30-80mv，胶体达到了稳定，从而形成稳定的中性化学机械抛光液。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人：	闫未霞;王良咏;刘卫丽;宋志棠
专利状态：	有效
申请日期：	2012-12-28T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201210586914.1
公开号：	CN103897603A
代理机构：	上海光华专利事务所 31219
代理人：	许亦琳;余明伟
分类号：	C09G1/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢
主权项：	一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒??0.2?30wt%；氧化剂??0.01?5wt%；表面活性剂??0.01?4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6?8。
所属类别：	发明专利