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一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用
| 专利名称： | 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用 |
| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光领域，特别是涉及一种可有效应用于相变材料GST的自停止化学机械抛光液及其制备方法和应用。本发明提供一种自停止化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：抛光颗粒0.2-30份；有机物保护剂0.0001-5份；氧化剂0.01-5份；表面活性剂0.01-4份；水性介质85-95份；pH调节剂适量；所述自停止化学机械抛光液的pH值的范围为2-6。本发明提供的用于相变材料GST图形片自停止化学机械抛光液，其中含有的有机物保护剂能够在GST的高度低于氧化硅的时候附着在GST的表面，在GST的表面形成一种保护膜，起到保护GST的作用，从而避免了蝶形坑的形成。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海新安纳电子科技有限公司 |
| 发明人： | 闫未霞;王良咏;刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2013-09-25T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201310447272.1 |
| 公开号： | CN103484025A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 张艳 |
| 分类号： | C09G1/02(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
| 主权项： | 一种自停止化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：所述自停止化学机械抛光液的pH值的范围为2?6。FDA0000387538350000011.jpg |
| 所属类别： | 发明专利 |
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