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原文传递 Al衬底用化学机械抛光液

专利名称：	Al衬底用化学机械抛光液
摘要：	本发明涉及一种化学机械抛光液，尤其涉及一种可有效应用于Al衬底化学机械抛光工艺的抛光液。本发明提供一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质。其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1-50wt%；氧化剂0.01-10wt%；螯合剂0.01-5wt%；腐蚀抑制剂0.0001-5wt%；表面活性剂0.001-2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。可显著降低化学机械抛光后Al衬底表面的桔皮坑等缺陷,从而大大改善抛光后Al衬底表面质量。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人：	王良咏;刘卫丽;宋志棠
专利状态：	有效
申请日期：	2012-06-28T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201210219203.0
公开号：	CN102757732A
代理机构：	上海光华专利事务所 31219
代理人：	许亦琳;余明伟
分类号：	C09G1/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢
主权项：	一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质；其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1?50wt%；氧化剂0.01?10wt%；螯合剂0.01?5wt%；腐蚀抑制剂0.0001?5wt%；表面活性剂0.001?2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。
所属类别：	发明专利