专利名称: |
一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用 |
摘要: |
本发明公开了一种高抛光速率的用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液,包含有磨料、pH值调节剂、表面活性剂、消泡剂和去离子水;以所述抛光液总重量为基准计,所述磨料的含量为1~50wt%,所述表面活性剂的含量为0.005-1wt%,所述消泡剂的含量为20~200ppm。采用本发明提供的抛光液对蓝宝石衬底进行抛光,可以使得蓝宝石衬底粗糙度小于0.2nm,抛光速率大于5μm/h,并可有效消除凹坑、突起、划痕等表面缺陷。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
上海新安纳电子科技有限公司 |
发明人: |
张泽芳;刘卫丽;宋志棠 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2011-12-21T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201110433696.3 |
公开号: |
CN102585705A |
代理机构: |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人: |
许亦琳;余明伟 |
分类号: |
C09G1/02(2006.01)I |
申请人地址: |
201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
主权项: |
一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液,包括磨料、碱性pH值调节剂、表面活性剂、消泡剂和去离子水;以所述抛光液总重量为基准计,所述磨料的含量为1~50wt%,所述表面活性剂的含量为0.005?1wt%,所述消泡剂的含量为20~200ppm。 |
所属类别: |
发明专利 |