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原文传递一种化学机械抛光液

专利名称：	一种化学机械抛光液
摘要：	一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂0.1~50wt%、氨羧型螯合剂0.01~5wt%、余量为pH调节剂和水。本发明化学机械抛光液的有益效果为：通过本发明提供的化学机械抛光液可以显著提高抛光速率，其抛光速率是现有技术中化学机械抛光液的至少1.5倍；应用于蓝宝石衬底时衬底材料表面无划痕、粗糙度显著降低；能够实现对蓝宝石材料的高效抛光处理，使得蓝宝石衬底及窗口片能够工业化生产。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人：	刘卫丽;侯蕾
专利状态：	有效
申请日期：	2014-12-30T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201410857244.1
公开号：	CN104559800A
代理机构：	上海光华专利事务所 31219
代理人：	梁海莲
分类号：	C09G1/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢
主权项：	一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂??????0.1～50wt％氨羧型螯合剂????0.01～5wt％余量为pH调节剂和水。
所属类别：	发明专利