专利名称: |
AMOLED结构及其制作方法 |
摘要: |
本发明提供一种用于改善OLED膜层断裂问题的AMOLED结构及其制作方法。本发明一种AMOLED结构,包括TFT电路层、设于所述TFT电路层之上的像素层、设于所述像素层之上的OLED层;所述像素层包括第一像素层、以及第二像素层;所述第一像素层设于所述TFT电路层之上,并于两侧形成有第一斜坡面;所述第二像素层设于所述第一像素层之上,并于两侧形成有第二斜坡面;所述OLED层包覆于所述TFT电路层、所述第一像素层以及所述第二像素层。采用上述结构可有效解决OLED层膜层断裂的问题。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
上海和辉光电有限公司 |
发明人: |
左文霞;高印;柯其勇 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2014-07-07T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201410321194.5 |
公开号: |
CN104091896A |
代理机构: |
上海唯源专利代理有限公司 31229 |
代理人: |
曾耀先 |
分类号: |
H01L51/52(2006.01)I |
申请人地址: |
201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 |
主权项: |
一种AMOLED结构,其特征在于,包括TFT电路层、设于所述TFT电路层之上的像素层、设于所述像素层之上的OLED层;所述像素层包括第一像素层、以及第二像素层;所述第一像素层设于所述TFT电路层之上,并于两侧形成有第一斜坡面;所述第二像素层设于所述第一像素层之上,并于两侧形成有第二斜坡面;所述OLED层包覆于所述TFT电路层、所述第一像素层以及所述第二像素层。 |
所属类别: |
发明专利 |