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AMOLED结构及其制作方法
| 专利名称： | AMOLED结构及其制作方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于改善OLED膜层断裂问题的AMOLED结构及其制作方法。本发明一种AMOLED结构，包括TFT电路层、设于所述TFT电路层之上的像素层、设于所述像素层之上的OLED层；所述像素层包括第一像素层、以及第二像素层；所述第一像素层设于所述TFT电路层之上，并于两侧形成有第一斜坡面；所述第二像素层设于所述第一像素层之上，并于两侧形成有第二斜坡面；所述OLED层包覆于所述TFT电路层、所述第一像素层以及所述第二像素层。采用上述结构可有效解决OLED层膜层断裂的问题。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 发明人： | 左文霞;高印;柯其勇 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2014-07-07T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201410321194.5 |
| 公开号： | CN104091896A |
| 代理机构： | 上海唯源专利代理有限公司 31229 |
| 代理人： | 曾耀先 |
| 分类号： | H01L51/52(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 |
| 主权项： | 一种AMOLED结构，其特征在于，包括TFT电路层、设于所述TFT电路层之上的像素层、设于所述像素层之上的OLED层；所述像素层包括第一像素层、以及第二像素层；所述第一像素层设于所述TFT电路层之上，并于两侧形成有第一斜坡面；所述第二像素层设于所述第一像素层之上，并于两侧形成有第二斜坡面；所述OLED层包覆于所述TFT电路层、所述第一像素层以及所述第二像素层。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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