原文传递
氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用
| 专利名称： | 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 |
| 摘要： | 本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域，具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光，可以提高抛光去除率和抛光选择比，减少抛光缺陷。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 张泽芳;刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-02-08T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201010106871.3 |
| 公开号： | CN101818047A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 分类号： | C09K3/14(2006.01)I |
| 申请人地址： | 200050 上海市长宁区长宁路865号5号楼505室 |
| 主权项： | 一种氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒，其特征在于，所述氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
