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原文传递药液回流装置

专利名称：	药液回流装置
摘要：	本实用新型公开了一种药液回流装置，包括：蚀刻槽、缓冲槽、水洗槽和储液槽；所述缓冲槽设置于所述水洗槽和所述蚀刻槽之间，且该蚀刻槽和所述缓冲槽均与所述储液槽贯通连接；以及所述缓冲槽和所述蚀刻槽中均设置有至少一风帘。本实用新型具有如下优点或者有益效果：在蚀刻槽和水洗槽之间增加缓冲槽，并在缓冲槽中设置至少一个风帘，通过蚀刻槽和缓冲槽中的双道风帘，完成对药液吹回的双重动作，减少玻璃基板表面药液的携出量，并进一步减少至水洗槽被置换掉的药液，有效减少机台药液浪费率，提高了药液的循环使用率，在保证正常药液寿命的条件下循环使用；可保证在量产情况下，节省大量药液。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	陈睿;林志明;廖子毅;陈宇新;黄耀乐
专利状态：	有效
申请日期：	2014-06-11T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201420309895.2
公开号：	CN204185388U
代理机构：	上海申新律师事务所 31272
代理人：	吴俊
分类号：	C03C15/00(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种药液回流装置，其特征在于，包括：蚀刻槽、缓冲槽、水洗槽和储液槽；所述缓冲槽设置于所述水洗槽和所述蚀刻槽之间，且该蚀刻槽和所述缓冲槽均与所述储液槽贯通连接；以及所述缓冲槽和所述蚀刻槽中均设置有至少一风帘。
所属类别：	实用新型