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原文传递药液处理装置

专利名称：	药液处理装置
摘要：	本发明涉及一种药液处理装置，在解决被喷射的药液所造成的乱流、储液、变形事故的同时，能防止在液中的上浮、鼓动、变形等的搬送困扰，也不会对电路形成面造成损伤。该药液处理装置(1)被用于基板的制造工序中，通过药液(B)对基板材料(A)进行表面处理。其具有：液槽(5)，被药液(B)填满；输送装置(3)，被配设在该液槽(5)内，搬送基板材料(A)；以及喷嘴(4)，被配设在该液槽(5)内，对基板材料(A)喷射药液(B)。该输送装置(3)具备运送基板材料(A)的夹持滚筒(8、9)群，这些夹持
专利类型：	发明专利
申请人：	东京化工机株式会社
发明人：	新山喜三郎;菅原清司
专利状态：	有效
申请日期：	2007-03-13T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200710086735.0
公开号：	CN101155477
代理机构：	北京三幸商标专利事务所
代理人：	刘激扬
分类号：	H05K3/02(2006.01)I
申请人地址：	日本国东京都
所属类别：	发明专利